某研究小組模擬工業(yè)無隔膜電解法處理電鍍含氰廢水,進(jìn)行以下有關(guān)實(shí)驗(yàn),回答下列問題.
(1)實(shí)驗(yàn)I 制取次氯酸鈉溶液,用石墨作電極電解飽和氯化鈉溶液制取次氯酸鈉溶液,生成次氯酸鈉的離子方程式為
.
實(shí)驗(yàn)Ⅱ測定含氰廢水處理百分率,利用如圖所示裝置進(jìn)行實(shí)驗(yàn):將CN
-的濃度為0.2000mol?L
-1的含氰廢水100mL與l00mL NaClO溶液(過量)置于裝置②錐形瓶中充分反應(yīng),打開分液漏斗活塞,滴入100ml,稀H
2SO
4,關(guān)閉活塞.

已知裝置②中發(fā)生的主要反應(yīng)依次為:
CN
-+ClO
-═CNO+Cl
-2CNO
-+2H
++3ClO
-═N
2↑+2CO
2↑+3Cl
-+H
2O
(2)裝置③的作用是
,裝置⑥的作用是
.
(3)反應(yīng)結(jié)束后,緩緩?fù)ㄈ肟諝獾哪康氖?!--BA-->
.
(4)為計(jì)算該實(shí)驗(yàn)中含氰廢水被處理的百分率,需要測定
的質(zhì)量.
(5)上述實(shí)驗(yàn)完成后,為了回收裝置③中的CCl
4需要的操作是
.
(6)若要研究裝置②中所加稀硫酸的最佳濃度,請?zhí)顚懺撗b置進(jìn)行實(shí)驗(yàn)的記錄表.要求:①在進(jìn)行理論判斷后,將理論濃度作為第一組實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù);②記錄表要體現(xiàn)實(shí)驗(yàn)過程中的不變量、自變量、因變量.
實(shí)驗(yàn) |
c(H2SO4)mol.L-1 |
V(H2SO4)mL |
V(NaClO)mL |
含氯廢水的體積mL |
1 |
|
100 |
|
100 |
2 |
0.0500 |
|
100 |
100 |
3 |
0.2000 |
|
100 |
100 |