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        2. 


          
	
          
		
	
          
	
          
		
          
			
		
          
		
          
	
          

          



          

          

          


          

          
	
          
				
          

			
				1655下列推斷可能正確的有        .A. 酸性越強的酸除鐵銹效果越好B. 草酸除水垢效果差的原因是因為草酸酸性太弱C. 鐵銹或水垢在酸中的溶解性與酸根離子的性質(zhì)可能有關D. 硫酸除鐵銹和水垢的效果都好			【查看更多】
			


		
           
          


		
          
		
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          草酸（H2C2O4）是一種二元弱酸，受熱能分解，它在水溶液中存在形式的分布與pH關系如圖所示：
          （1）試寫出pH從3升至5的過程中反應的離子方程式：
          HC2O4-+OH-=C2O42-+H2O
          HC2O4-+OH-=C2O42-+H2O

          （2）H2C2O4溶液中，c（H+）/c（C2O42-）
          ＞
          ＞
          2（填“＞”、“＜”或“=”）．
          （3）H2C2O4受熱能分解，分解方程式為：
          H2C2O4
           加熱 
          .
           
          CO↑+CO2↑+H2O
          H2C2O4
           加熱 
          .
           
          CO↑+CO2↑+H2O

          （4）H2C2O4是標定KMnO4溶液濃度常用的基準物質(zhì)．標定KMnO4溶液濃度時，應將溶液加熱至75～85℃，溫度低于或高于該范圍時都不利于滴定結(jié)果的準確，理由是_________．
          （5）下表為物質(zhì)的量濃度相同的幾種酸對鐵銹及鍋爐水垢的溶解性的比較：
          

          


          
酸
鐵銹[Fe（OH）3]溶解量/g
水垢（CaCO3）溶解量/g
          

          
鹽酸
0.7911
全溶
          

          
磷酸
0.1586
微溶
          

          
草酸
0.7399
0.0036
          

          
醋酸
0.1788
0.1655
          下列推斷可能正確的有
          C
          C
          （填字母）．
          A．酸性越強的酸除鐵銹效果越好
          B．草酸除水垢效果差的原因是因為草酸酸性太弱
          C．鐵銹或水垢在酸中的溶解性與酸根離子的性質(zhì)可能有關
          D．硫酸除鐵銹和水垢的效果都好．
          

			
          
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          常溫下，可發(fā)生反應：A（g）+B（g）?C（g）+xD（g）  若將2mol A和2mol B 混合充入體積可變的密閉容器中，在不同壓強下達到平衡時，C的濃度如下：
          

          


          
序號
壓強/Pa
C的平衡濃度/mol．L-1
          

          
1
1×105
1.0
          

          
2
2×105
1.8
          

          
3
4×105
3.2
          

          
4
5×105
6.0
          下列推斷可能正確的是（　�。�
          

			
          
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          硅單質(zhì)及其化合物應用范圍很廣,請回答下列問題：
              
          （1）       制備硅半導體材料必須先得到高純硅。三氯甲硅烷（SiHCl3）還原法是當前制備高純硅的主要方法，生產(chǎn)過程示意圖如下：
              
              
             
                                     
             
                      
               
                            
          焦炭
                                		     
              
                         		            
               
                            
          HCl
                                		     
              
                         		            
               
                            
          提純
                                		     
              
                         		   
            
               
              
              
              
             
                  
               
                            
          石英砂
                                		     
              
                         		   
            
                  
             
                  
               
                            
          SiHCl3(精)
                                      		     
              
                         		   
            
                  
             
                  
               
                            
          SiHCl3(粗)
                                      		     
              
                         		   
            
                  
             
                  
               
                            
          573K以上
                                		     
              
                         		   
            
                  
             
                  
               
                            
          粗硅
                                		     
              
                         		   
            
                  
             
                  
               
                            
          高溫
                                		     
              
                         		   
            
                     
              
              
             
                 
             
                     
            
               
                      
              
          ①寫出由純SiHCl3制備高純硅的化學反應方程式　                  　。
              
          ②整個制備過程必須嚴格控制無水、無氧。SiHCl3遇水劇烈反應生成H2SiO3、HCl和另一種物質(zhì)，寫出配平的化學反應方程式　　　                 　         ；H2還原SiHCl3過程中若混02，可能引起的后果是                                       。
              
          （2）下列有關說法正確的是            （填字母）。
              
          A.碳化硅化學性質(zhì)穩(wěn)定，可用于生產(chǎn)耐高溫水泥
              
          B.氮化硅硬度大、熔點高，可用于制作高溫陶瓷和軸承
              
          C.普通玻璃的成分有純堿、石灰石和石英砂，其熔點很高
              
          D.鹽酸可以與硅反應，故采用鹽酸為拋光液拋光單晶硅
              
          (3)取少量硅酸鈉溶液于試管中，逐滴加入鹽酸溶液，振蕩,則反應的離子方程式是　 　                                                            。
              
          

			
          
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          標準狀況下，1體積水中能溶解500體積的HCl氣體．
          （1）若向水中通入標準狀況下的44.8LHCl氣體配成1L溶液，假設氣體完全溶解，得溶液中含HCl的物質(zhì)的量濃度為    ．
          （2）從該溶液中取出10mL濃鹽酸溶解于水配制成250mL溶液，實驗時應選用儀器是    （填字母）；
          若實驗儀器有：
          A．托盤天平、B.100mL量筒、C．玻璃棒、D.100mL容器瓶、E.10mL量筒、F．膠頭滴管、G．燒杯、H.250mL容量瓶．
          配制后的稀溶液中含HCl物質(zhì)的量濃度為    ．
          （3）在容量瓶的使用方法中，下列操作不正確的是    （填字母）；
          A．使用容量瓶前檢查其是否漏水．
          B．容量瓶用蒸餾水洗凈后，再用待配溶液洗滌．
          C．配制溶液時，如果試樣是固體，把稱好的試樣用紙條小心倒入容量瓶中，緩慢加入蒸餾水到接近刻度線1-2cm處，用膠頭滴管滴加蒸餾水到刻度線．
          D．配制溶液時，如果試樣是液體，用量筒量取試樣后直接倒入容量瓶中，緩慢加入蒸餾水到接近刻度線1-2cm處，用膠頭滴管滴加蒸餾水到刻度線．
          E．蓋好瓶蓋，用食指頂住瓶塞，用另一只手的手指托住瓶底，把容量瓶倒轉(zhuǎn)和搖動多次
          （4）配制過程中，造成濃度偏低的操作可能有    （選填下列操作的序號）．
          A．容量瓶蒸餾水洗后未加干燥
          B．量筒用蒸餾水洗后未干燥
          C．將燒杯中濃鹽酸移入容量瓶后，未用水洗滌燒杯，即向容量中加水到刻度
          D、用膠頭滴管向容量瓶中加水時，不慎超過刻度線，用另外膠頭滴管從瓶中吸出部分溶液使剩余溶液剛巧達刻度線
          E．定容時，俯視液面加水至刻度線．
          

			
          
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          常溫下，某水溶液M中存在的離子有：Na+、A-、H+、OH-．若該溶液M由 pH=3的HA溶液V1mL與pH=11的NaOH溶液V2mL混合反應而得，則下列說法中正確的是
           
          （填字母）．
          A．若溶液M呈中性，則溶液M中c（H+）+c（OH-）=2×10-7mol?L-1
          B．若V1=V2，則溶液M的pH一定等于7
          C．若溶液M呈酸性，則V1一定大于V2
          D．若溶液M呈堿性，則V1一定小于V2．
          

			
          
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          題號
          1
          2
          3
          4
          5
          6
          7
          8
          9
          10
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          12
          13
          14
          答案
          B
          D
          A
          A
          C
          D
          B
          D
          B
          B
          AC
          AD
          BC
          C
          15．（10分，每空2分）
          （1）過濾(洗滌) 
；    蒸發(fā)濃縮、冷卻結(jié)晶，過濾
          （2）連接好裝置，從漏斗向量氣筒內(nèi)注入一定量的水，移動漏斗使左、右兩側(cè)形成液面高度差。靜置后，液面高度不再變化，即表明氣密性良好。（其他合理方法均給分）
          6ec8aac122bd4f6e（3）移動漏斗保持左、右兩側(cè)液面相平                
（4）6ec8aac122bd4f6e%（2分）
          16．（8分）（1）Al4C3；             
 (各1分，共2分)
          （2）1.204×1024（或2NA）（2分）        
（3）4NH3+5O26ec8aac122bd4f6e4NO+6H2O（2分）
          （4）AlO2－+CO2+2H2O＝Al(OH)3↓+HCO3－（2分）；
          6ec8aac122bd4f6e17．（10分，每空2分）        （1）HC2O4－+ OH―= C2O42－+ H2O    （2）＞
          （3）H2C2O4     CO↑+CO2↑+H2O
          （4）溫度過低反應速率緩慢；溫度過高時，H2C2O4在酸性溶液中會部分分解。(每個點1分 共2分)
          （5）C
          18．（10分）（1）保護臭氧層（1分）
          （2）6ec8aac122bd4f6e（2分）
          （3）A（2分）
          （4）①2KHCO36ec8aac122bd4f6eK2CO3+CO2↑+H2O（2分）
          ②CO2(g)+3H2(g)          
 6ec8aac122bd4f6eCH3OH(g)+H2O(g)  ΔH＝－49.47kJ•mol－1（2分）
          6ec8aac122bd4f6e6ec8aac122bd4f6e（5）B或D（B、D都選給分）（1分）
          19．（12分，每空2分）
          6ec8aac122bd4f6e（1）反應①：加成反應；反應④：取代反應（2） A：CH3CCN； G：
           
          （3）B→C；CH3CCOOH          
CH2＝CCOOH＋H2O
           
          


          
 
          
  
  
  
  
  
  
 
          
 
          
  
  
  6ec8aac122bd4f6e,6ec8aac122bd4f6e,6ec8aac122bd4f6e,6ec8aac122bd4f6e,6ec8aac122bd4f6e,6ec8aac122bd4f6e,6ec8aac122bd4f6e,6ec8aac122bd4f6e
  
  6ec8aac122bd4f6e
 
          
 
          
  
  6ec8aac122bd4f6e
 
          
 
          
  
 
          
 
          
  
 
          

          

 
           
          6ec8aac122bd4f6e


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              20．（10分） 
（1） 0.3 （2分） 
（2）ACF  （3分）
              （3）SO2十2H2O－2e―＝ SO42―十4 H+ （2分）；     （4）13.4mL/min （3分）
              21．⑴ 3d54s2 （2分）； Mn2＋轉(zhuǎn)化為Mn3＋時，3d能級由較穩(wěn)定的3d5半充滿狀態(tài)轉(zhuǎn)變?yōu)椴环�(wěn)定的3d4狀態(tài)（或Fe2＋轉(zhuǎn)化為Fe3＋時，3d能級由不穩(wěn)定的3d6狀態(tài)轉(zhuǎn)變?yōu)檩^穩(wěn)定的3d5半充滿狀態(tài)）（2分）
              ⑵ ① 具有孤對電子 （2分） ② sp（2分） ； ∶N≡N∶（1分）
              ⑶ 分子晶體（1分）   ⑷ 2∶1（1分）；    3：2（1分）
               
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