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				①寫出由純SiHCl3制備高純硅的化學(xué)反應(yīng)方程式                           ,www. Ks5 u.c om②整個(gè)制備過(guò)程必須嚴(yán)格控制無(wú)水無(wú)氧.SiHCl3遇水劇烈反應(yīng)生成H2SiO3.HCl和另一種物質(zhì).寫出配平的化學(xué)反應(yīng)方程式                     .H2還原SiHCl3過(guò)程中若混O2.可能引起的后果是                            ,  (2)下列有關(guān)硅材料的說(shuō)法正確的是                :A．碳化硅化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定.可用于生產(chǎn)耐高溫水泥B．氮化硅硬度大.熔點(diǎn)高.可用于制作高溫陶瓷和軸承C．普通玻璃是由純堿.石灰石和石英砂制成的.其熔點(diǎn)很高D．鹽酸可以與硅反應(yīng).故采用鹽酸為拋光液拋光單晶硅E．高純度的二氧化硅可用于制造高性能通訊材料――光導(dǎo)纖維 (3)硅酸鈉水溶液俗稱水玻璃.取少量硅酸鈉溶液于試管中.逐滴加入飽和氯化銨溶液.振蕩.寫出實(shí)驗(yàn)現(xiàn)象                                         .			【查看更多】
			


		
           
          


		
          
		
          題目列表(包括答案和解析)
          

		
		
          

          


          
	
          				
          
									
          （2008?廣東）硅單質(zhì)及其化合物應(yīng)用范圍很廣．請(qǐng)回答下列問(wèn)題：
          （1）制備硅半導(dǎo)體材料必須先得到高純硅．三氯甲硅烷（SiHCl3）還原法是當(dāng)前制備高純硅的主要方法，生產(chǎn)過(guò)程示意圖如下：

          ①寫出由純SiHCl3制備高純硅的化學(xué)反應(yīng)方程式
          SiHCl3+H2
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          .
           
          Si+3HCl
          SiHCl3+H2
           1357K 
          .
           
          Si+3HCl
          ．
          ②整個(gè)制備過(guò)程必須嚴(yán)格控制無(wú)水無(wú)氧．SiHCl3遇水劇烈反應(yīng)生成H2SiO3、HCl和另一種物質(zhì)，寫出配平的化學(xué)反應(yīng)方程式
          3SiHCl3+3H2O═H2SiO3+H2↑+3HCl
          3SiHCl3+3H2O═H2SiO3+H2↑+3HCl
          ；H2還原SiHCl3過(guò)程中若混O2，可能引起的后果是
          高溫下，H2遇O2發(fā)生爆炸
          高溫下，H2遇O2發(fā)生爆炸
          ．
          （2）下列有關(guān)硅材料的說(shuō)法正確的是
          ABCD
          ABCD
          （填字母）．
          A．碳化硅化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定，可用于生產(chǎn)耐高溫水混
          B．氮化硅硬度大、熔點(diǎn)高，可用于制作高溫陶瓷和軸承
          C．普通玻璃是由純堿、石灰石和石英砂的，其熔點(diǎn)很高
          D．鹽酸可以與硅反應(yīng)，故采用鹽酸為拋光液拋光單晶硅
          （3）硅酸鈉水溶液俗稱水玻璃．取少量硅酸鈉溶液于試管中，逐滴加入飽和氯化銨溶液，振蕩．寫出實(shí)驗(yàn)現(xiàn)象并給予解釋
          生成白色絮狀沉淀，又刺激性氣味的氣體生成，SiO32-與NH4+發(fā)生雙水解反應(yīng)，SiO32-+2NH4++2H2O═2NH3?H2O+H2SiO3↓
          生成白色絮狀沉淀，又刺激性氣味的氣體生成，SiO32-與NH4+發(fā)生雙水解反應(yīng)，SiO32-+2NH4++2H2O═2NH3?H2O+H2SiO3↓
          ．
          

			
          
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          硅單質(zhì)及其化合物應(yīng)用范圍很廣。請(qǐng)回答下列問(wèn)題：
          (1)制備硅半導(dǎo)體材料必須先得到高純硅。
          三氯甲硅烷(SiHCl3)還原法是當(dāng)前制備高純硅的主要方法，生產(chǎn)過(guò)程示意圖如下：

          ①寫出由純SiHCl3制備高純硅的化學(xué)反應(yīng)方程式                                 。
          ②整個(gè)制備過(guò)程必須嚴(yán)格控制無(wú)水無(wú)氧。SiHCl3遇水劇烈反應(yīng)生成H2SiO3、HCl和另一種物質(zhì)，寫出配平的化學(xué)反應(yīng)方程式                                             ；
          H2還原SiHCl3過(guò)程中若混入O2，可能引起的后果是                                 
                                                                                      。 
          (2)下列有關(guān)硅材料的說(shuō)法正確的是        (填字母)。
          A．碳化硅化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定，可用于生產(chǎn)耐高溫水泥
          B．氮化硅硬度大、熔點(diǎn)高，可用于制作高溫陶瓷和軸承
          C．高純度的二氧化硅可用于制造高性能通訊材料——光導(dǎo)纖維
          D．普通玻璃是由純堿、石灰石和石英砂制成的，其熔點(diǎn)很高
           E．鹽酸可以與硅反應(yīng)，故采用鹽酸為拋光液拋光單晶硅
          高溫
          

			
          
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          硅單質(zhì)及其化合物應(yīng)用范圍很廣。請(qǐng)回答下列問(wèn)題：
            
              （1）制備硅半導(dǎo)體材料必須先得到高純硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)還原法是當(dāng)前制備高純硅的主要方法，生產(chǎn)過(guò)程示意圖如下：
            
            
              ①寫出由純SiHCl3制備高純硅的化學(xué)反應(yīng)方程式        。
            
              ②整個(gè)制備過(guò)程必須嚴(yán)格控制無(wú)水無(wú)氧。SiHCl3遇水劇烈反應(yīng)生成H2SiO3、HCl和另一種物質(zhì)，寫出配平的化學(xué)反應(yīng)方程式           ；H2還原SiHCl3過(guò)程中若混入O2，可能引起的后果是                                 。
            
              （2）下列有關(guān)硅材料的說(shuō)法正確的是         (填字母)。
            
                A．碳化硅化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定，可用于生產(chǎn)耐高溫水泥
            
                B．氮化硅硬度大、熔點(diǎn)高，可用于制作高溫陶瓷和軸承
            
                C．高純度的二氧化硅可用于制造高性能通訊材料——光導(dǎo)纖維
            
                D．普通玻璃是由純堿、石灰石和石英砂制成的，其熔點(diǎn)很高
            
                E．鹽酸可以與硅反應(yīng)，故采用鹽酸為拋光液拋光單晶硅
            
          （3）硅酸鈉水溶液俗稱水玻璃。取少量硅酸鈉溶液于試管中，逐滴加入飽和氯化銨溶液，振蕩。寫出實(shí)驗(yàn)現(xiàn)象并給予解釋          。
          

			
          
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          （10分)硅單質(zhì)及其化合物應(yīng)用范圍很廣。請(qǐng)回答下列問(wèn)題: 
          


          (1)制備硅半導(dǎo)體材料必須先得到高純硅。三氯甲硅烷還原法是當(dāng)前制備高純硅的主要方法,生產(chǎn)過(guò)程示意圖如下: 
          


          


          ①寫出由純制備高純硅的化學(xué)方程式:                         。
          


          ②整個(gè)制備過(guò)程必須嚴(yán)格控制無(wú)水無(wú)氧。遇水劇烈反應(yīng)生成、HCl和另一種物質(zhì),配平后的化學(xué)反應(yīng)方程式為?                   ;還原過(guò)程中若混入可能引起的后果是?                 。
          


          (2)下列有關(guān)硅材料的說(shuō)法正確的是?       (填字母)。
          


          A．碳化硅化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定,可用于生產(chǎn)耐高溫水泥
          


          B．氮化硅硬度大、熔點(diǎn)高,可用于制作高溫陶瓷和軸承
          


          C．高純度的二氧化硅可用于制造高性能通訊材料——光導(dǎo)纖維
          


          D．普通玻璃是由純堿、石灰石和石英砂制成的,其熔點(diǎn)很高
          


          E.鹽酸可以與硅反應(yīng),故采用鹽酸為拋光液拋光單晶硅
          


          (3)硅酸鈉水溶液俗稱水玻璃。取少量硅酸鈉溶液于試管中,逐滴加入稀硝酸,振蕩。寫出實(shí)驗(yàn)現(xiàn)象并給予解釋                         。
          


           
          

			
          
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          （10分)硅單質(zhì)及其化合物應(yīng)用范圍很廣。請(qǐng)回答下列問(wèn)題: 
          (1)制備硅半導(dǎo)體材料必須先得到高純硅。三氯甲硅烷還原法是當(dāng)前制備高純硅的主要方法,生產(chǎn)過(guò)程示意圖如下: 

          ①寫出由純制備高純硅的化學(xué)方程式:                         。
          ②整個(gè)制備過(guò)程必須嚴(yán)格控制無(wú)水無(wú)氧。遇水劇烈反應(yīng)生成、HCl和另一種物質(zhì),配平后的化學(xué)反應(yīng)方程式為?                   ;還原過(guò)程中若混入可能引起的后果是?                 。
          (2)下列有關(guān)硅材料的說(shuō)法正確的是?       (填字母)。
          A．碳化硅化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定,可用于生產(chǎn)耐高溫水泥
          B．氮化硅硬度大、熔點(diǎn)高,可用于制作高溫陶瓷和軸承
          C．高純度的二氧化硅可用于制造高性能通訊材料——光導(dǎo)纖維
          D．普通玻璃是由純堿、石灰石和石英砂制成的,其熔點(diǎn)很高
          E.鹽酸可以與硅反應(yīng),故采用鹽酸為拋光液拋光單晶硅
          (3)硅酸鈉水溶液俗稱水玻璃。取少量硅酸鈉溶液于試管中,逐滴加入稀硝酸,振蕩。寫出實(shí)驗(yàn)現(xiàn)象并給予解釋                         。
          

			
          
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          1C 2A 3C 4A
5C 6D 7B 8C 9B 10D 11C 12A
13A 14B 15D
          16.（1）水   濃硫酸 ；（2）檢查氣密性，將G彎管浸沒(méi)在盛有水的燒杯中，溫?zé)釤緽，觀察G管口，若有氣泡逸出，說(shuō)明裝置的氣密性良好；
          （3）先從A瓶逐滴滴加液體， 檢驗(yàn)H2的純度；（4） ，   。
          17.(1) 2Fe3＋＋H2S
= S↓＋2Fe2＋＋2H＋， Na2S＋2H2OS↓＋H2↑＋2NaOH 
          或S2－＋2H2OS↓＋H2↑＋2OH－，產(chǎn)物NaOH可循環(huán)使用，也可得副產(chǎn)品H2；
          (2)陽(yáng)離子(Na＋)，鈦(或石墨)；
          (3)4， 正四面體。  
          18.（1）Al(OH)3+OH－--=AlO2－+2H2O ；  （2）；
          （3）SO2+Cl2+2H2O=H2SO4+2HCl
；  （4）HCl＞H2S；
          （5）S2-＞Cl­­­ -＞Na＋＞Al3＋；（6）Cl2O7(l)+H2O(l)=2HClO4(aq)；△H=－4QkJ/mol。 
          19. (1) ①SiHCl3+H2= Si+3HClwww. Ks5 u.com
            ②3SiHCl3+3H2O===H2SiO3+H2↑+3HCl;高溫下，H2遇O2發(fā)生爆炸。(2)ABCE
          (3)生成白色絮狀沉淀，又刺激性氣味的氣體生成。
          20.
(1)NaCl;   (2)Cu+2H2SO4CuSO4+ SO2↑+2H2O,高溫、催化劑；  (3)CH3CH2OH。
          21. ⑴b ； ⑵加熱褪色后的溶液，若溶液恢復(fù)紅色，則原通入氣體為SO2，若溶液不變紅，則原通入氣體是O3 ； ⑶2Fe+3Cl22FeCl3  Fe+SFeS(其他合理答案均給分)；
          ⑷①H-C≡N ；  ⑸16w1:(44w2-aw1)。
           
           
           
           
           
          		
          
	
          
	
          
		
          


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