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        1. 四氯化硅還原法是當前制備較高純度硅的一種方法,有關反應的化學方程式為:SiCl4+2H2
           高溫 
          .
           
          4HCl+Si下列說法不合理的是( 。
          分析:A.硅位于金屬與非金屬元素的交界處;
          B.該反應中有氣體參加反應,改變壓強,反應速率改變;
          C.硅與氯氣能發(fā)生氧化還原反應;
          D.硅能與氧氣反應.
          解答:解:A.硅位于金屬與非金屬元素的交界處,硅具有金屬性和非金屬性,則反應制得的硅可用于制造半導體材料,故A正確;
          B.該反應中有氣體參加反應,則增大壓強,化學反應速率增大,故B正確;
          C.硅與氯氣能發(fā)生氧化還原反應,則四氯化硅可以由粗硅與氯氣通過化合反應制得,故C正確;
          D.硅能與氧氣反應生成二氧化硅,所以混入少量空氣對上述反應有影響,故D錯誤;
          故選D.
          點評:本題考查硅的提純及硅的性質,明確硅在周期表的位置及硅與氯氣、氧氣等發(fā)生的化學反應即可解答,題目難度不大.
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           高溫 
          .
           
          Si(s)+4HCl(g).下列說法合理的是(  )
          A、光導纖維的主要成分是硅單質
          B、減小壓強有利于加快化學反應速率
          C、高溫下,氫氣的還原性強于硅
          D、混入少量空氣對上述反應無影響

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          四氯化硅還原法是當前制備較高純度硅的一種方法,有關反應的化學方程式為:
          SiCl4+2H24HCl+Si
          下列說法不合理的是

          A.反應制得的硅可用于制造半導體材料
          B.增大壓強有利于加快上述反應的化學反應速率
          C.四氯化硅可以由粗硅與氯氣通過化合反應制得
          D.混入少量空氣對上述反應無影響

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          SiCl4+2H24HCl+Si

          下列說法不合理的是

          A.反應制得的硅可用于制造半導體材料

          B.增大壓強有利于加快上述反應的化學反應速率

          C.四氯化硅可以由粗硅與氯氣通過化合反應制得

          D.混入少量空氣對上述反應無影響

           

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          科目:高中化學 來源:2012-2013學年黑龍江省牡丹江一中高二(上)期末化學試卷(解析版) 題型:選擇題

          四氯化硅還原法是當前制備較高純度硅的一種方法,有關反應的化學方程式為:SiCl4+2H24HCl+Si下列說法不合理的是( )
          A.反應制得的硅可用于制造半導體材料
          B.增大壓強有利于加快上述反應的化學反應速率
          C.四氯化硅可以由粗硅與氯氣通過化合反應制得
          D.混入少量空氣對上述反應無影響

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