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        1. 9.硅的元素符號(hào)為Si.單晶硅是制作電子集成電路的基礎(chǔ)材料用化學(xué)方法可制得高純度硅 有關(guān)化學(xué)反應(yīng)方程式為:①SiO2+2C==Si+2CO↑ ②Si+2C12======SiCl4 ③SiCl4+2H2====Si+4HCl其中①.③的反應(yīng)類型屬于 A.復(fù)分解反應(yīng) B.分解反應(yīng) C.置換反應(yīng) D.化合反應(yīng) 查看更多

           

          題目列表(包括答案和解析)

          硅的元素符號(hào)為Si,單晶硅是制作電子集成電路的基礎(chǔ)材料用化學(xué)方法可制得高純硅有關(guān)化學(xué)反應(yīng)方程式為:①SiO2+2C==Si+2CO↑  ②Si+2C12======SiCl4   ③SiCl4+2H2====Si+4HCl其中①、③的反應(yīng)類型屬于  (    )  

          A.復(fù)分解反應(yīng)            B.分解反應(yīng)             C.置換反應(yīng)             D.化合反應(yīng)

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          硅元素的符號(hào)為Si單晶硅是制作電子集成電路的基礎(chǔ)材料.用化學(xué)方法可制得高純硅,其化學(xué)方程式為:①SiO2+2C
           高溫 
          .
           
          Si+2CO②Si+2Cl2
           點(diǎn)燃 
          .
           
          SiCl4③SiCl4+2H2
            △  
          .
           
          Si+4HC,上述反應(yīng)中,反應(yīng)②的反應(yīng)類型屬于(  )
          A、化合反應(yīng)B、分解反應(yīng)
          C、置換反應(yīng)D、都不是

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          硅元素的符號(hào)為Si單晶硅是制作電子集成電路的基礎(chǔ)材料.用化學(xué)方法可制得高純硅,其化學(xué)方程式為:①SiO2+2C
           高溫 
          .
           
          Si+2CO②Si+2Cl2
           點(diǎn)燃 
          .
           
          SiCl4③SiCl4+2H2
            △  
          .
           
          Si+4HC,上述反應(yīng)中,反應(yīng)②的反應(yīng)類型屬于(  )
          A.化合反應(yīng)B.分解反應(yīng)C.置換反應(yīng)D.都不是

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          硅元素的符號(hào)為Si單晶硅是制作電子集成電路的基礎(chǔ)材料.用化學(xué)方法可制得高純硅,其化學(xué)方程式為:①SiO2+2CSi+2CO②Si+2Cl2SiCl4③SiCl4+2H2Si+4HC,上述反應(yīng)中,反應(yīng)②的反應(yīng)類型屬于( )
          A.化合反應(yīng)
          B.分解反應(yīng)
          C.置換反應(yīng)
          D.都不是

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          硅元素的符號(hào)為Si單晶硅是制作電子集成電路的基礎(chǔ)材料.用化學(xué)方法可制得高純硅,其化學(xué)方程式為:①SiO2+2CSi+2CO②Si+2Cl2SiCl4③SiCl4+2H2Si+4HC,上述反應(yīng)中,反應(yīng)②的反應(yīng)類型屬于( )
          A.化合反應(yīng)
          B.分解反應(yīng)
          C.置換反應(yīng)
          D.都不是

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