題目列表(包括答案和解析)
清洗和制絨是硅晶片制作的重要步驟之一，硅片化學(xué)清洗的主要目的是除去硅片表面雜質(zhì)（如某些有機(jī)物，無機(jī)鹽，金屬、Si、SiO2粉塵等）。常用的化學(xué)清洗劑有高純水、有機(jī)溶劑、雙氧水、濃酸、強(qiáng)堿等。其中去除硅的氧化物，通常用一定濃度的HF溶液，室溫條件下將硅片浸泡1至數(shù)分鐘。制絨是在硅片表面形成金字塔形的絨面，增加硅對太陽光的吸收。單晶制絨通常用NaOH，Na2SiO3等混合溶液在75～90℃反應(yīng)25～35 min，效果良好。
回答下列問題
（1）能否用玻璃試劑瓶來盛HF溶液，為什么?用化學(xué)方程式加以解釋 ；
（2）寫出晶片制絨反應(yīng)的離子方程式 ，對單晶制絨1990年化學(xué)家Seidel提出了一種的電化學(xué)模型，他指出Si與NaOH溶液的反應(yīng)，首先是Si與OH一反應(yīng)，生成SiO44一，然后SiO44一迅速水解生成H4SiO4�；诖嗽矸治龇磻�(yīng)中氧化劑為 。
（3）本�；瘜W(xué)興趣小組同學(xué)，為驗證Seidel的理論是否正確，完成以下實驗：
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實驗事實 |
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事實一 |
水蒸汽在600℃時可使粉末狀硅緩慢氧化并放出氫氣。 |
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事實二 |
盛放于鉑或石英器皿中的純水長時間對粉末狀還原硅無腐蝕作用。 |
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事實三 |
普通玻璃器皿中的水僅因含有從玻璃中溶出的微量的堿便可使粉末狀硅在其中緩慢溶解。 |
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事實四 |
在野外環(huán)境里，用較高百分比的硅鐵粉與干燥的Ca(OH)2和NaOH，點(diǎn)著后燜燒，可劇烈放出H2。 |
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事實五 |
1g（0.036mo1）Si和20mL含有l(wèi)gNaOH（0.025mol）的溶液，小心加熱（稍微預(yù)熱），收集到約1700mL H2，很接近理論值（1600mL）。 |
結(jié)論：從實驗上說明堿性水溶液條件下，H2O可作 劑；NaOH作 劑，降低反應(yīng) 。高溫?zé)o水環(huán)境下，NaOH作 劑。
（4）在太陽能電池表面沉積深藍(lán)色減反膜——氮化硅晶膜。常用硅烷（SiH4）與氨氣（NH3）在等離子體中反應(yīng)。硅烷是一種無色、有毒氣體，常溫下與空氣和水劇烈反應(yīng)。下列關(guān)于硅烷、氮化硅的敘述不正確的是 。
A．在使用硅烷時要注意隔離空氣和水，SiH4能與水發(fā)生氧化還原反應(yīng)生成H2；
B．硅烷與氨氣反應(yīng)的化學(xué)方程式為：3SiH4+4NH3＝Si3N4+12H2↑，反應(yīng)中NH3作氧化劑；
C．它們具有卓越的抗氧化、絕緣性能和隔絕性能，化學(xué)穩(wěn)定性很好，不與任何酸、堿反應(yīng)；
D．氮化硅晶體中只存在共價鍵，Si3N4是優(yōu)良的新型無機(jī)非金屬材料。
清洗和制絨是硅晶片制作的重要步驟之一，硅片化學(xué)清洗的主要目的是除去硅片表面雜質(zhì)（如某些有機(jī)物，無機(jī)鹽，金屬、Si、SiO2粉塵等）。常用的化學(xué)清洗劑有高純水、有機(jī)溶劑、雙氧水、濃酸、強(qiáng)堿等。其中去除硅的氧化物，通常用一定濃度的HF溶液，室溫條件下將硅片浸泡1至數(shù)分鐘。制絨是在硅片表面形成金字塔形的絨面，增加硅對太陽光的吸收。單晶制絨通常用NaOH，Na2SiO3等混合溶液在75～90℃反應(yīng)25～35 min，效果良好。
回答下列問題
（1）能否用玻璃試劑瓶來盛HF溶液，為什么?用化學(xué)方程式加以解釋 ；
（2）寫出晶片制絨反應(yīng)的離子方程式 ，對單晶制絨1990年化學(xué)家Seidel提出了一種的電化學(xué)模型，他指出Si與NaOH溶液的反應(yīng)，首先是Si與OH一反應(yīng)，生成SiO44一，然后SiO44一迅速水解生成H4SiO4。基于此原理分析反應(yīng)中氧化劑為 。
（3）本校化學(xué)興趣小組同學(xué)，為驗證Seidel的理論是否正確，完成以下實驗：
| | 實驗事實 |
| 事實一 | 水蒸汽在600℃時可使粉末狀硅緩慢氧化并放出氫氣。 |
| 事實二 | 盛放于鉑或石英器皿中的純水長時間對粉末狀還原硅無腐蝕作用。 |
| 事實三 | 普通玻璃器皿中的水僅因含有從玻璃中溶出的微量的堿便可使粉末狀硅在其中緩慢溶解。 |
| 事實四 | 在野外環(huán)境里，用較高百分比的硅鐵粉與干燥的Ca(OH)2和NaOH，點(diǎn)著后燜燒，可劇烈放出H2。 |
| 事實五 | 1g（0.036mo1）Si和20mL含有l(wèi)gNaOH（0.025mol）的溶液，小心加熱（稍微預(yù)熱），收集到約1700mL H2，很接近理論值（1600mL）。 |
| | 實驗事實 |
| 事實一 | 水蒸汽在600℃時可使粉末狀硅緩慢氧化并放出氫氣。 |
| 事實二 | 盛放于鉑或石英器皿中的純水長時間對粉末狀還原硅無腐蝕作用。 |
| 事實三 | 普通玻璃器皿中的水僅因含有從玻璃中溶出的微量的堿便可使粉末狀硅在其中緩慢溶解。 |
| 事實四 | 在野外環(huán)境里，用較高百分比的硅鐵粉與干燥的Ca(OH)2和NaOH，點(diǎn)著后燜燒，可劇烈放出H2。 |
| 事實五 | 1g（0.036mo1）Si和20mL含有l(wèi)gNaOH（0.025mol）的溶液，小心加熱（稍微預(yù)熱），收集到約1700mL H2，很接近理論值（1600mL）。 |
第Ⅰ卷（66分）
一、選擇題（本題共10分），每小題2分，只有一個正確選項
題 號
1
2
3
4
5
答 案
A
C
D
A
B
二、選擇題（本題共36分），每小題3分，只有一個正確選項。
題號
6
7
8
9
10
11
12
13
14
15
16
17
答案
C
A
C
A
B
B
D
D
B
D
C
D
三、選擇題（本題共20分），每小題4分，每小題有一個或兩個正確選項。只有一個正確選項的，多選不給分；有兩個正確選項的，選對一個給2分，選錯一個該小題不給分。
題 號
18
19
20
21
22
答 案
BD
AD
BC
AC
CD
第二卷（共84分）
四、（本題共24分）
23．（共8分）
（1）三角錐形，2009年高考第二次模擬考試――化學(xué).files/image036.gif)
（各1分，共2分）
（2）第三周期IIIA族，2Al + 2OH- + 2H2O → 2AlO2- + 3H2↑（各1分，共2分）
（3）N，HNO3 + NaHCO3 → NaNO3 + H2O +CO2↑（各1分，共2分）
（4）強(qiáng)（或弱），M是氟元素，非金屬性比氯強(qiáng)（或M是硫元素，非金屬性比氯弱）（各1分，共2分）
24．（共8分）
（1）CuI、I2（2分） （2）2Cu＋I(xiàn)2 →2CuI↓（2分）
（3）>，高（2分） （4）a c（2分）（各1分，錯選、多選不得分）
25．（共8分）
（1）0.075mol/L?min（1分）
（2）放熱， CO(g)+2H2(g) → CH3OH(g) +91KJ， 不能（各1分，共3分）
（3）K = ，減��；（各1分，共2分） （4）c（2分）
26．（共12分）
（1）bc（2分） （2） 吸收多余的SO2，防止污染環(huán)境（1分）
（3）②（1分），將②加在A和B之間（1分）
（4）SO2+ Na2O2→ Na2SO4（2分）
（5）不合理（1分），如果固體中還有未反應(yīng)的Na2O2，也能氧化亞硫酸鈉為硫酸鈉。（2分）
（6）acd（2分）
27．（共12分）
（1）Fe(OH)3 （1分） （2）3Cu + 2HNO3 + 3H2SO4 →3CuSO4 + 2NO↑+ 4H2O（2分）
（3）
（5）①方案二（1分） ②Cu2+的藍(lán)色對檢驗有干擾（2分）
（6）4NO + 3O2 +H2O → 4HNO3（2分）。
28．（共8分）
（1）2009年高考第二次模擬考試――化學(xué).files/image038.gif)
（2分）
（2）2009年高考第二次模擬考試――化學(xué).files/image040.gif)
（各1分，共3分）
（3）2009年高考第二次模擬考試――化學(xué).files/image042.gif)
（各1分，共2分）
（4）2009年高考第二次模擬考試――化學(xué).files/image044.gif)
（1分）
29．（共12分）
（1）2009年高考第二次模擬考試――化學(xué).files/image046.gif)
，2009年高考第二次模擬考試――化學(xué).files/image048.gif)
（各1分，共2分）
（2）取代，氧化，消除（或消去）（各1分，共3分）
（3）2009年高考第二次模擬考試――化學(xué).files/image050.gif)
，（2分）
2009年高考第二次模擬考試――化學(xué).files/image052.gif)
（2分）
（4）C與G（1分）
（5）2009年高考第二次模擬考試――化學(xué).files/image054.gif)
（2分）
30．（共6分）
（1）0.01 mol（2分） （2）20%（2分） （3）0.1mol/L（2分）
31．（共10分）
（1）
（3）①3:10 （2分） ② y = （3分）
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