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          題目列表(包括答案和解析)

          根據(jù)實驗室中測定硫酸銅晶體結(jié)晶水含量的實驗,填寫下列空白。

          (1)從下列儀器選出所需儀器(用標(biāo)號字母填寫)__________。

          A.托盤天平(帶砝碼)  B.研缽  C.試管夾  D.酒精燈  E.蒸發(fā)皿  F.玻璃棒  G.坩堝  H.干燥器  I.石棉網(wǎng)  J.三腳架?

          除上述儀器外,還需要的儀器是__________。

          (2)某學(xué)生實驗后得到以下數(shù)據(jù):

          加熱前質(zhì)量

          加熱后質(zhì)量

          W1(容器)

          W2(容器+晶體)

          W3(容器+無水硫酸銅)

          5.4 g

          7.9 g

          6.8 g

          請寫出結(jié)晶水含量(x%)的計算公式(用W1、W2、W3表示)

          x%=__________,該生測定結(jié)果是偏高還是偏低?__________。

          從下列分析中選出該學(xué)生產(chǎn)生實驗誤差的原因可能是(填寫字母)__________。

          A.加熱前稱量時容器未完全干燥

          B.最后兩次加熱后的質(zhì)量相差較大(大于0.1 g)

          C.加熱后容器未放入干燥器中冷卻

          D.加熱過程中晶體有少量濺失

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          根據(jù)實驗室中測定硫酸銅晶體結(jié)晶水含量的實驗,填寫下列空白:

          (1)從下列儀器中選出所需儀器(用標(biāo)號字母填寫)____________________;

          A.托盤天平(帶砝碼)  B.研缽  C.試管夾  D.酒精燈  E.蒸發(fā)皿  F.玻璃棒  G.坩堝  H.干燥器  I.石棉網(wǎng)  J.三腳架

          除上述儀器外,還需要的儀器是_____________________________。

          (2)本次實驗中至少要在天平上進行四次稱量。第一次做_____________的稱量;第二次做__________________的稱量;第三次做___________________的稱量;第四次做___________的稱量。第一、二次稱量的目的是___________________________,第三、四次稱量的目的是_____________________________。

          (3)某學(xué)生實驗后得到以下數(shù)據(jù):

          加熱前質(zhì)量

          加熱后質(zhì)量

          W1(容器)

          W3(容器+晶體)

          W3(容器+無水硫酸銅)

          5.4 g

          7.9 g

          6.8 g

          請寫出結(jié)晶水含量(x%)的計算公式(用W1、W2、W3表示):

          x%=______________________。

          該生測定結(jié)果是偏高還是偏低?____________。

          從下列分析中選出該學(xué)生產(chǎn)生實驗誤差的原因可能是__________(填寫字母)。

          A.加熱前稱量時容器未完全干燥

          B.最后兩次加熱后質(zhì)量相差較大(大于0.1 g)

          C.加熱后容器未放入干燥器中冷卻

          D.加熱過程中有少量固體濺失

          (4)問題與討論:

          ①加熱硫酸銅晶體時應(yīng)注意什么?____________________________________________。

          ②要求測定結(jié)果準(zhǔn)確,你覺得有重復(fù)稱量的必要嗎?________________________________。

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          (2009?浙江)單晶硅是信息產(chǎn)業(yè)中重要的基礎(chǔ)材料.通常用炭在高溫下還原二氧化硅制得粗硅(含鐵、鋁、硼、磷等雜質(zhì)),粗硅與氯氣反應(yīng)生成四氯化硅(反應(yīng)溫度450~500℃),四氯化硅經(jīng)提純后用氫氣還原可得高純硅.以下是實驗室制備四氯化硅的裝置示意圖.

          相關(guān)信息如下:①四氯化硅遇水極易水解;
          ②硼、鋁、鐵、磷在高溫下均能與氯氣直接反應(yīng)生成相應(yīng)的氯化物;
          ③有關(guān)物質(zhì)的物理常數(shù)見下表:
          物質(zhì) SiCl4 BCl3 AlCl3 FeCl3 PCl5
          沸點/℃ 57.7 12.8 - 315 -
          熔點/℃ -70.0 -107.2 - - -
          升華溫度/℃ - - 180 300 162
          請回答下列問題:
          (1)寫出裝置A中發(fā)生反應(yīng)的離子方程式
          MnO2+4H++2Cl-
           加熱 
          .
           
          Mn2++Cl2↑+2H2O
          MnO2+4H++2Cl-
           加熱 
          .
           
          Mn2++Cl2↑+2H2O

          (2)裝置A中g(shù)管的作用是
          平衡壓強,使液體順利流出并防止漏氣
          平衡壓強,使液體順利流出并防止漏氣
          ;裝置C中的試劑是
          濃硫酸
          濃硫酸
          ;
          裝置E中的h瓶需要冷卻的理由是
          產(chǎn)物SiCl4沸點低,需要冷凝收集
          產(chǎn)物SiCl4沸點低,需要冷凝收集

          (3)裝置E中h瓶收集到的粗產(chǎn)物可通過精餾(類似多次蒸餾)得到高純度四氯化硅,精餾后的殘留物中,除鐵元素外可能還含有的雜質(zhì)元素是
          Al、P、Cl
          Al、P、Cl
          (填寫元素符號).
          (4)為了分析殘留物中鐵元素的含量,先將殘留物預(yù)處理,使鐵元素還原成Fe2+,再用KMnO4標(biāo)準(zhǔn)溶液在酸性條件下進行氧化還原滴定,反應(yīng)的離子方程式是:5Fe2++MnO4-+8H+=5Fe3++Mn2++4H2O
          ①滴定前是否要滴加指示劑?
          (填“是”或“否”),請說明理由
          KMnO4溶液的紫紅色可指示反應(yīng)終點
          KMnO4溶液的紫紅色可指示反應(yīng)終點

          ②某同學(xué)稱取5.000g殘留物后,經(jīng)預(yù)處理后在容量瓶中配制成100mL溶液,移取25.00mL試樣溶液,用1.000×10-2 mol/LKMnO4標(biāo)準(zhǔn)溶液滴定.達(dá)到滴定終點時,消耗標(biāo)準(zhǔn)溶液20.00mL,則殘留物中鐵元素的質(zhì)量分?jǐn)?shù)是
          4.480%
          4.480%

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          (2012?湖南一模)下列離子方程式不正確的是(  )

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          (2012?湖南一模)下列各組離子在指定溶液中能大量共存的是( 。
          ①常溫下,c(H+)/c(OH-)=1×10-12的溶液:K+、AlO2-、CO32-、Na+
          ②加入苯酚顯紫色的溶液:K+、NH4+、Cl-、I-
          ③中性溶液:Fe3+、Al3+、NO3-、SO42-
          ④使pH試紙變藍(lán)的溶液中:NH4+、Na+、SO42-、Cl-
          ⑤無色溶液中:K+、Al3+、NO3-、HCO3-

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          同步練習(xí)冊答案