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				D．當(dāng)反應(yīng)吸收熱量為0.025QkJ時.生成的HCl通入100mL1mol?L-1的NaOH恰好反應(yīng)			【查看更多】
			


		
           
          


		
          
		
          題目列表(包括答案和解析)
          

		
		
          

          


          
	
          				
          
									
          工業(yè)上制備純硅反應(yīng)的熱化學(xué)方程式如下：SiCl4(g)＋2H2(g)  Si(s)＋4HCl(g) △H＝＋QkJ·mol-1(Q＞0)，某溫度、壓強下，將一定量的反應(yīng)物通入密閉容器中進行以上的反應(yīng)(此條件下為可逆反應(yīng))，下列敘述正確的是
          A．反應(yīng)過程中，若增大壓強能提高SiCl4的轉(zhuǎn)化率
          B．當(dāng)反應(yīng)吸熱為0.025QkJ時，生成的HCl與100mL1mol·L－1的NaOH溶液恰好反應(yīng)
          C．反應(yīng)至4min時，若HCl的濃度為0.12mol·L－1，則H2的反應(yīng)速率為0.03mol/(L·min)
          D．若反應(yīng)開始時SiCl4為1mol，則達到平衡時，吸收熱量為QkJ
          

			
          
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          工業(yè)上制備純硅反應(yīng)的熱化學(xué)方程式如下：SiCl4(g)＋2H2(g)  Si(s)＋4HCl(g) 
△H＝＋QkJ·mol-1(Q＞0)，某溫度、壓強下，將一定量的反應(yīng)物通入密閉容器中進行以上的反應(yīng)(此條件下為可逆反應(yīng))，下列敘述正確的是
          


          A．反應(yīng)過程中，若增大壓強能提高SiCl4的轉(zhuǎn)化率
          


          B．當(dāng)反應(yīng)吸熱為0.025QkJ時，生成的HCl與100mL1mol·L－1的NaOH溶液恰好反應(yīng)
          


          C．反應(yīng)至4min時，若HCl的濃度為0.12mol·L－1，則H2的反應(yīng)速率為0.03mol/(L·min)
          


          D． 若反應(yīng)開始時SiCl4為1mol，則達到平衡時，吸收熱量為QkJ
          


           
          

			
          
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          工業(yè)上制備純硅反應(yīng)的熱化學(xué)方程式如下：SiCl4(g)＋2H2(g)  Si(s)＋4HCl(g) △H＝＋QkJ·mol-1(Q＞0)，某溫度、壓強下，將一定量的反應(yīng)物通入密閉容器中進行以上的反應(yīng)(此條件下為可逆反應(yīng))，下列敘述正確的是
          A．反應(yīng)過程中，若增大壓強能提高SiCl4的轉(zhuǎn)化率
          B．當(dāng)反應(yīng)吸熱為0.025QkJ時，生成的HCl與100mL1mol·L－1的NaOH溶液恰好反應(yīng)
          C．反應(yīng)至4min時，若HCl的濃度為0.12mol·L－1，則H2的反應(yīng)速率為0.03mol/(L·min)
          D． 若反應(yīng)開始時SiCl4為1mol，則達到平衡時，吸收熱量為QkJ
           
          

			
          
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          工業(yè)上制備純硅反應(yīng)的熱化學(xué)方程式：SiCl4（g）+2H2（g）?Si（s）+4HCl（g）△H=+QkJ/mol（Q＞0），一定溫度、壓強下，將一定量的反應(yīng)物通入密閉容器中進行以上反應(yīng)，下列敘述正確的是（ ）
          A．反應(yīng)過程中，減小壓強能提高SiCl4的轉(zhuǎn)化率
          B．若反應(yīng)開始時SiCl4為1mol，則達平衡時，吸收熱量為QkJ
          C．當(dāng)反應(yīng)吸收熱量為0.025QkJ時，生成的HCl通入100mL 1mol/L的NaOH溶液得到的溶液呈中性
          D．反應(yīng)至4min時，若HCl濃度為0.12mol/L，則2min時，HCl濃度為0.06mol/L
          

			
          
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          工業(yè)上制備純硅反應(yīng)的熱化學(xué)方程式：SiCl4（g）+2H2（g）?Si（s）+4HCl（g）△H=+QkJ/mol（Q＞0），一定溫度、壓強下，將一定量的反應(yīng)物通入密閉容器中進行以上反應(yīng)，下列敘述正確的是（　�。�
          

			
          
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