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        1. ②SiHCl3遇水劇烈反應(yīng)生成H2SiO3.HCl和另一種物質(zhì).寫(xiě)出配平的化學(xué)反應(yīng)方程式3SiHCl3+3H2O===H2SiO3+H2↑+3HCl;H2還原SiHCl3過(guò)程中若混入O2.可能引起的后果是:高溫下.H2遇O2發(fā)生爆炸.(2)ABCD解釋:SiC和Si3N4均為原子晶體.熔點(diǎn)高.性質(zhì)穩(wěn)定.AB正確.光導(dǎo)纖維的材料為SiO2.C正確.普通玻璃的主要成分為Na2SiO3和CaSiO3.它是以石英砂和純堿為主要原料反應(yīng)制成的.Na2CO3+SiO2====Na2SiO3+CO2,CaCO3+SiO2====CaSiO3+CO2.D正確.常溫下.Si只能與唯一一種酸HF反應(yīng)不與HCl反應(yīng).E錯(cuò).(3)寫(xiě)出實(shí)驗(yàn)現(xiàn)象并給予解釋:生成白色絮狀沉淀.又刺激性氣味的氣體生成,SiO32-與NH4+發(fā)生雙水解反應(yīng).SiO32- + 2 NH4+ + 2H2O === 2NH3?H2O + H2SiO3↓. 查看更多

           

          題目列表(包括答案和解析)

          硅單質(zhì)及其化合物應(yīng)用范圍很廣。請(qǐng)回答下列問(wèn)題:
          (1)制備硅半導(dǎo)體材料必須先得到高純硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)還原法是當(dāng)前制備高純硅的主要方法,生產(chǎn)過(guò)程示意圖如圖

          ①寫(xiě)出由純SiHCl3制備高純硅的化學(xué)方程式:__________________
          ②整個(gè)制備過(guò)程必須嚴(yán)格控制無(wú)水無(wú)氧。SiHCl3遇水劇烈反應(yīng)生成H2SiO3、HCl和另一種物質(zhì),寫(xiě)出配平后的化學(xué)方程式________________;H2還原SiHCl3過(guò)程中若混有O2,可能引起的后果是_____________。
          (2)下列有關(guān)硅材料的說(shuō)法正確的是___________(填字母)。
          A.碳化硅化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定,可用于生產(chǎn)耐高溫水泥
          B.氮化硅硬度大、熔點(diǎn)高,可用于制作高溫陶瓷和軸承
          C.高純度的二氧化硅可用于制造高性能通訊材料--光導(dǎo)纖維
          D.普通玻璃是由純堿、石灰石和石英制成的,其熔點(diǎn)很高
          E.鹽酸可以與硅反應(yīng),故采用鹽酸為拋光液拋光單晶硅

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          硅單質(zhì)及其化合物應(yīng)用很廣。請(qǐng)回答下列問(wèn)題:
          (1)制備硅半導(dǎo)體材料必須先得到高純硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)還原法是當(dāng)前制備高純硅的主要方法,生產(chǎn)過(guò)程示意圖如下:

          ①寫(xiě)出由純SiHCl3制備高純硅的化學(xué)反應(yīng)方程式____________________。
          ②整個(gè)制備過(guò)程必須嚴(yán)格控制無(wú)水、無(wú)氧。SiHCl3遇水劇烈反應(yīng)生成H2SiO3、HCl和另一種物質(zhì),寫(xiě)出配平的化學(xué)反應(yīng)方程式____________________;H2還原SiHCl3過(guò)程中若混有O2,可能引起的后果是____________________。
          (2)下列有關(guān)硅材料的說(shuō)法正確的是   (  )。
          A.單質(zhì)硅化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定,但可以被強(qiáng)堿溶液腐蝕
          B.鹽酸可以與硅反應(yīng),故采用鹽酸為拋光液拋光單晶硅
          C.普通玻璃是由純堿、石灰石和石英砂制成的,其熔點(diǎn)很高
          D.光導(dǎo)纖維的主要成分是SiO2
          (3)硅酸鈉水溶液俗稱水玻璃。取少量硅酸鈉溶液于試管中,逐滴加入鹽酸,振蕩。寫(xiě)出實(shí)驗(yàn)現(xiàn)象并給予解釋(用化學(xué)方程式說(shuō)明)_________________________ ____。
          (4)在人體器官受到損傷時(shí),需要使用一種新型無(wú)機(jī)非金屬材料來(lái)植入體內(nèi),這種材料是________(填字母)。
          A.高溫結(jié)構(gòu)陶瓷     B.生物陶瓷      C.導(dǎo)電陶瓷

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          硅單質(zhì)及其化合物應(yīng)用很廣。請(qǐng)回答下列問(wèn)題:

          (1)制備硅半導(dǎo)體材料必須先得到高純硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)還原法是當(dāng)前制備高純硅的主要方法,生產(chǎn)過(guò)程示意圖如下 :

           

          寫(xiě)出由純SiHCl3制備高純硅的化學(xué)反應(yīng)方程式____________________。

          整個(gè)制備過(guò)程必須嚴(yán)格控制無(wú)水、無(wú)氧。SiHCl3遇水劇烈反應(yīng)生成H2SiO3、HCl和另一種物質(zhì),寫(xiě)出配平的化學(xué)反應(yīng)方程式____________________;H2還原SiHCl3過(guò)程中若混有O2,可能引起的后果是____________________。

          (2)下列有關(guān)硅材料的說(shuō)法正確的是 (  )。

          A單質(zhì)硅化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定,但可以被強(qiáng)堿溶液腐蝕

          B鹽酸可以與硅反應(yīng),故采用鹽酸為拋光液拋光單晶硅

          C普通玻璃是由純堿、石灰石和石英砂制成的,其熔點(diǎn)很高

          D光導(dǎo)纖維的主要成分是SiO2

          (3)硅酸鈉水溶液俗稱水玻璃。取少量硅酸鈉溶液于試管中,逐滴加入鹽酸,振蕩。寫(xiě)出實(shí)驗(yàn)現(xiàn)象并給予解釋(用化學(xué)方程式說(shuō)明)_________________________ ____。

          (4)在人體器官受到損傷時(shí),需要使用一種新型無(wú)機(jī)非金屬材料來(lái)植入體內(nèi),這種材料是________(填字母)

          A高溫結(jié)構(gòu)陶瓷  B.生物陶瓷  C導(dǎo)電陶瓷

           

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          硅單質(zhì)及其化合物應(yīng)用很廣。請(qǐng)回答下列問(wèn)題:
          (1)制備硅半導(dǎo)體材料必須先得到高純硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)還原法是當(dāng)前制備高純硅的主要方法,生產(chǎn)過(guò)程示意圖如下:

          ①寫(xiě)出由純SiHCl3制備高純硅的化學(xué)反應(yīng)方程式____________________。
          ②整個(gè)制備過(guò)程必須嚴(yán)格控制無(wú)水、無(wú)氧。SiHCl3遇水劇烈反應(yīng)生成H2SiO3、HCl和另一種物質(zhì),寫(xiě)出配平的化學(xué)反應(yīng)方程式____________________;H2還原SiHCl3過(guò)程中若混有O2,可能引起的后果是____________________。
          (2)下列有關(guān)硅材料的說(shuō)法正確的是   (  )。
          A.單質(zhì)硅化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定,但可以被強(qiáng)堿溶液腐蝕
          B.鹽酸可以與硅反應(yīng),故采用鹽酸為拋光液拋光單晶硅
          C.普通玻璃是由純堿、石灰石和石英砂制成的,其熔點(diǎn)很高
          D.光導(dǎo)纖維的主要成分是SiO2
          (3)硅酸鈉水溶液俗稱水玻璃。取少量硅酸鈉溶液于試管中,逐滴加入鹽酸,振蕩。寫(xiě)出實(shí)驗(yàn)現(xiàn)象并給予解釋(用化學(xué)方程式說(shuō)明)_________________________ ____。
          (4)在人體器官受到損傷時(shí),需要使用一種新型無(wú)機(jī)非金屬材料來(lái)植入體內(nèi),這種材料是________(填字母)。
          A.高溫結(jié)構(gòu)陶瓷     B.生物陶瓷      C.導(dǎo)電陶瓷

          查看答案和解析>>

          硅單質(zhì)及其化合物應(yīng)用范圍很廣。請(qǐng)回答下列問(wèn)題:

          (1)制備硅半導(dǎo)體材料必須先得到高純硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)還原法是當(dāng)前制備高純硅  的主要方法,生產(chǎn)過(guò)程示意圖如下:

                

          ①     寫(xiě)出由純SiHCl3制備高純硅的化學(xué)反應(yīng)方程式

          ________________________________________________________________________

          ________________________________________________________________________。

          ②     整個(gè)制備過(guò)程必須嚴(yán)格控制無(wú)水無(wú)氧。SiHCl3遇水劇烈反應(yīng)生成H2SiO3、HCl和另一種物質(zhì),寫(xiě)出配平的化學(xué)反應(yīng)方程式

          ________________________________________________________________________;

          H2還原SiHCl3過(guò)程中若混入O2,可能引起的后果是

          ________________________________________________________________________。

          (2)下列有關(guān)硅材料的說(shuō)法正確的是________(填字母)。

          A.碳化硅化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定,可用于生產(chǎn)耐高溫水泥

          B.氮化硅硬度大、熔點(diǎn)高,可用于制作高溫陶瓷和軸承

          C.高純度的二氧化硅可用于制造高性能通訊材料——光導(dǎo)纖維

          D.普通玻璃是由純堿、石灰石和石英砂制成的,其熔點(diǎn)很高

          E.鹽酸可以與硅反應(yīng),故采用鹽酸為拋光液拋光單晶硅

          (3)硅酸鈉水溶液俗稱水玻璃。取少量硅酸鈉溶液于試管中,逐滴加入飽和氯化銨溶液,      振蕩。寫(xiě)出實(shí)驗(yàn)現(xiàn)象并給予解釋:

          ________________________________________________________________________

          ________________________________________________________________________

          ________________________________________________________________________。

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