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（1）制備硅半導體材料必須先得到高純硅。三氯甲硅烷（SiHCl₃）還原法是當前制備高純硅的主要方法，生產(chǎn)過程示意圖如下：

①寫出由純SiHCl₃制備高純硅的化學反應方程式____________________________。

②整個制備過程必須嚴格控制無水無氧。SiHCl₃遇水劇烈反應生成H₂SiO₃、HCl和另一種物質(zhì)，寫出配平的化學反應方程式_________________；H₂還原SiHCl₃過程中若混入O₂，可能引起的后果是_________________________。

（2）下列有關(guān)硅材料的說法正確的是__________________（填字母）。

A.碳化硅化學性質(zhì)穩(wěn)定，可用于生產(chǎn)耐高溫水泥

B.氮化硅硬度大、熔點高，可用于制作高溫陶瓷和軸承

C.高純度的二氧化硅可用于制造高性能通訊材料——光導纖維

D.普通玻璃是由純堿、石灰石和石英砂制成的，其熔點很高

E.鹽酸可以與硅反應，故采用鹽酸為拋光液拋光單晶硅

（3）硅酸鈉水溶液俗稱水玻璃。取少量硅酸鈉溶液于試管中，逐滴加入飽和氯化銨溶液，振蕩。寫出實驗現(xiàn)象并給予解釋_______________________________。

硅單質(zhì)及其化合物應用范圍很廣。請回答下列問題：三硅酸鎂（2MgO·3SiO₂·nH₂O）被用來治療胃潰瘍，是因為該物質(zhì)不溶于水，服用后能中和胃酸，作用持久。寫出三硅酸鎂與胃酸（鹽酸）反應的化學方程式：

硅單質(zhì)及其化合物應用范圍很廣。請回答下列問題：

    （1）制備硅半導體材料必須先得到高純硅。三氯甲硅烷(SiHCl₃)還原法是當前制備高純硅的主要方法，生產(chǎn)過程示意圖如下：

    ①寫出由純SiHCl₃制備高純硅的化學反應方程式        。

    ②整個制備過程必須嚴格控制無水無氧。SiHCl₃遇水劇烈反應生成H₂SiO₃、HCl和另一種物質(zhì)，寫出配平的化學反應方程式           ；H₂還原SiHCl₃過程中若混入O₂，可能引起的后果是                                 。

    （2）下列有關(guān)硅材料的說法正確的是         (填字母)。

      A．碳化硅化學性質(zhì)穩(wěn)定，可用于生產(chǎn)耐高溫水泥

      B．氮化硅硬度大、熔點高，可用于制作高溫陶瓷和軸承

      C．高純度的二氧化硅可用于制造高性能通訊材料——光導纖維

      D．普通玻璃是由純堿、石灰石和石英砂制成的，其熔點很高

      E．鹽酸可以與硅反應，故采用鹽酸為拋光液拋光單晶硅

（3）硅酸鈉水溶液俗稱水玻璃。取少量硅酸鈉溶液于試管中，逐滴加入飽和氯化銨溶液，振蕩。寫出實驗現(xiàn)象并給予解釋          。

硅單質(zhì)及其化合物應用范圍很廣。請回答下列問題：

(1)制備硅半導體材料必須先得到高純硅。三氯甲硅烷(SiHCl₃)還原法是當前制備高純硅  的主要方法，生產(chǎn)過程示意圖如下：

①     寫出由純SiHCl₃制備高純硅的化學反應方程式

________________________________________________________________________

________________________________________________________________________。

②     整個制備過程必須嚴格控制無水無氧。SiHCl₃遇水劇烈反應生成H₂SiO₃、HCl和另一種物質(zhì)，寫出配平的化學反應方程式

________________________________________________________________________；

H₂還原SiHCl₃過程中若混入O₂，可能引起的后果是

________________________________________________________________________。

(2)下列有關(guān)硅材料的說法正確的是________(填字母)。

A．碳化硅化學性質(zhì)穩(wěn)定，可用于生產(chǎn)耐高溫水泥

B．氮化硅硬度大、熔點高，可用于制作高溫陶瓷和軸承

C．高純度的二氧化硅可用于制造高性能通訊材料——光導纖維

D．普通玻璃是由純堿、石灰石和石英砂制成的，其熔點很高

E．鹽酸可以與硅反應，故采用鹽酸為拋光液拋光單晶硅

(3)硅酸鈉水溶液俗稱水玻璃。取少量硅酸鈉溶液于試管中，逐滴加入飽和氯化銨溶液，      振蕩。寫出實驗現(xiàn)象并給予解釋：

________________________________________________________________________

________________________________________________________________________

________________________________________________________________________。

（16分）硅單質(zhì)及其化合物應用范圍很廣。請回答下列問題：

制備硅半導體材料必須先得到高純硅。三氯甲硅烷（SiHCl₃）還原法是當前制備高純硅的主要方法，生產(chǎn)過程示意圖如下：

（1）在制粗硅的反應中，焦炭的作用是                                                  。

（2）整個制備過程必須嚴格控制無水、無氧。

①SiHCl₃遇水劇烈反應生成H₂SiO₃、HCl和另一種物質(zhì)，寫出配平的化學反應方程式　　　　；②H₂還原SiHCl₃過程中若混O₂，可能引起的后果是                                    。

 (3)硅酸鈉水溶液俗稱水玻璃。取少量硅酸鈉溶液于試管中，逐滴加入飽和氯化銨溶液，振蕩。寫出實驗現(xiàn)象并給予解釋　　　                                                         　。