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①在一定條件下，羰基可以與乙炔鈉(HCCNa)發(fā)生反應(yīng)，如：

 (碳碳雙鍵)在一定條件下與氧化劑作用，如：

現(xiàn)有似化合物A為起始物的一系列反應(yīng)，A為只有一個側(cè)鏈的芳香烴(某些反應(yīng)的條件已略去)。已知分子中含有兩個 (碳碳雙鍵)的烴叫二烯烴。含有結(jié)構(gòu)的二烯烴不穩(wěn)定。

試回答：

(1)A的結(jié)構(gòu)簡式是________________________________________________。

(2)反應(yīng)過程中屬于加成反應(yīng)的是(填編號)____________________。

(3)寫出下列反應(yīng)的化學(xué)方程式：

B+E→G_________________________________________________________。

E→F____________________________________________________________。

(4)與B互為同分異構(gòu)體，含有甲基和苯環(huán)且屬于酯類的有機物有________________種。

（11分）不久前，美國威斯康星洲Emory大學(xué)的研究者們發(fā)現(xiàn)了一種可以在溫和條件下將硫醚（普通醚的氧原子被硫代替）選擇性地氧化為硫氧化物的水溶性催化劑。新催化劑是金（III）配合物（如圖），催化速度比已知以氧氣為氧化劑的高溫水溶性催化劑高幾個數(shù)量級。該發(fā)現(xiàn)的潛在應(yīng)用價值是可以在空氣中分解掉化妝品、涂料、織物的污染物�；卮鹣铝袉栴}：

5-1  下列物質(zhì)中屬于硫醚的有（   ）。

A．CH₃－SH    B．CH₃－S－CH₃   C．CH₃－－CH₃    D．CH₃CH₂－－OH

5-2  配位鍵是一種特殊的共價鍵，共享電子對完全由一個原子提供。該催化劑分子中的配位鍵是_____________。

5-3  “金（Ⅲ）配合物”中‘Ⅲ’表示_____________。

5-4  氧化硫醚的氧化劑一般選擇過氧化氫，由于副產(chǎn)物是水，對環(huán)境十分友好，所以，過氧化氫被稱為“綠色氧化劑”。

①過氧化氫與水比較：沸點較高的是________；密度較大的是________；常見分子中，與過氧化氫式量相同的分子是__________（填化學(xué)式）。

②過氧化氫可以看作二元弱酸，在低溫、稀溶液狀態(tài)下能較穩(wěn)定地存在，其水溶液俗稱雙氧水。請設(shè)計一條實驗室制備少量純凈的雙氧水的合成路線（只寫出原理即可）。

③HOF 是較新發(fā)現(xiàn)的一種特殊物質(zhì)，該物質(zhì)容易水解能得到有氧化性的酸性溶液。請寫出該水解方程式________________________。

清洗和制絨是硅晶片制作的重要步驟之一，硅片化學(xué)清洗的主要目的是除去硅片表面雜質(zhì)（如某些有機物，無機鹽，金屬、Si、SiO₂粉塵等）。常用的化學(xué)清洗劑有高純水、有機溶劑、雙氧水、濃酸、強堿等。其中去除硅的氧化物，通常用一定濃度的HF溶液，室溫條件下將硅片浸泡1至數(shù)分鐘。制絨是在硅片表面形成金字塔形的絨面，增加硅對太陽光的吸收。單晶制絨通常用NaOH，Na₂SiO₃等混合溶液在75～90℃反應(yīng)25～35 min，效果良好。

回答下列問題

（1）能否用玻璃試劑瓶來盛HF溶液，為什么?用化學(xué)方程式加以解釋                           ；

（2）寫出晶片制絨反應(yīng)的離子方程式                                    ，對單晶制絨1990年化學(xué)家Seidel提出了一種的電化學(xué)模型，他指出Si與NaOH溶液的反應(yīng)，首先是Si與OH^一反應(yīng)，生成SiO₄^4一，然后SiO₄^4一迅速水解生成H₄SiO₄�；�于此原理分析反應(yīng)中氧化劑為                     。

（3）本�；瘜W(xué)興趣小組同學(xué)，為驗證Seidel的理論是否正確，完成以下實驗：

結(jié)論：從實驗上說明堿性水溶液條件下，H₂O可作                 劑；NaOH作               劑，降低反應(yīng)             。高溫?zé)o水環(huán)境下，NaOH作               劑。

（4）在太陽能電池表面沉積深藍色減反膜——氮化硅晶膜。常用硅烷（SiH₄）與氨氣（NH₃）在等離子體中反應(yīng)。硅烷是一種無色、有毒氣體，常溫下與空氣和水劇烈反應(yīng)。下列關(guān)于硅烷、氮化硅的敘述不正確的是                。

A．在使用硅烷時要注意隔離空氣和水，SiH₄能與水發(fā)生氧化還原反應(yīng)生成H₂；

B．硅烷與氨氣反應(yīng)的化學(xué)方程式為：3SiH₄+4NH₃＝Si₃N₄+12H₂↑，反應(yīng)中NH₃作氧化劑；

C．它們具有卓越的抗氧化、絕緣性能和隔絕性能，化學(xué)穩(wěn)定性很好，不與任何酸、堿反應(yīng)；

D．氮化硅晶體中只存在共價鍵，Si₃N₄是優(yōu)良的新型無機非金屬材料。

清洗和制絨是硅晶片制作的重要步驟之一，硅片化學(xué)清洗的主要目的是除去硅片表面雜質(zhì)（如某些有機物，無機鹽，金屬、Si、SiO₂粉塵等）。常用的化學(xué)清洗劑有高純水、有機溶劑、雙氧水、濃酸、強堿等。其中去除硅的氧化物，通常用一定濃度的HF溶液，室溫條件下將硅片浸泡1至數(shù)分鐘。制絨是在硅片表面形成金字塔形的絨面，增加硅對太陽光的吸收。單晶制絨通常用NaOH，Na₂SiO₃等混合溶液在75～90℃反應(yīng)25～35 min，效果良好。
回答下列問題
（1）能否用玻璃試劑瓶來盛HF溶液，為什么?用化學(xué)方程式加以解釋                          ；
（2）寫出晶片制絨反應(yīng)的離子方程式                                   ，對單晶制絨1990年化學(xué)家Seidel提出了一種的電化學(xué)模型，他指出Si與NaOH溶液的反應(yīng)，首先是Si與OH^一反應(yīng)，生成SiO₄^4一，然后SiO₄^4一迅速水解生成H₄SiO₄�；�于此原理分析反應(yīng)中氧化劑為                    。
（3）本�；瘜W(xué)興趣小組同學(xué)，為驗證Seidel的理論是否正確，完成以下實驗：