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(1)寫出電解飽和氯化鈉溶液時的電極反應式和總的離子反應方程式。?

陽極：　　　　　　　，陰極：　　　　　　　；?

總反應方程式：　　　　　　　　　　　　　。?

(2)離子交換膜電解槽一般采用金屬鈦作陽極，其原因是      ，陰極一般用碳鋼網制成。陽離子交換膜把電解槽隔成陰極室和陽極室，其作用是　　　　　　　　　　　　　　　　。

(3)為使電解氯化鈉的速率加快，下列措施可行的是      。

a.增大陰極碳鋼網面積                 b.提高飽和氯化鈉溶液的溫度

c.加大陰極與陽極間的距離            d.提高電解時的電源電壓?

(4)電解之前食鹽水需要精制，目的是除去粗鹽中的Ca²⁺、Mg²⁺、SO^2-₄等雜質離子，使用的試劑有：?a.Na₂CO₃?溶液；  b.Ba(OH)₂溶液；  c.稀鹽酸。其合理的加入順序為      (填試劑序號)。

(5)如果在容積為10 L的離子交換膜電解槽中，1 min在陰極可產生11.2 L(標準狀況)Cl₂，這時溶液的pH是(設體積維持不變)　　　　　　。?

(6)Cl₂常用于自來水的消毒殺菌，現在有一種新型消毒劑ClO₂，若它們在殺菌過程中的還原產物均為Cl^-，消毒等量的自來水，所需用Cl₂和ClO₂的物質的量之比為      。?

氧化鋁(Al2O3) 和氮化硅（Si3N4）是優(yōu)良的高溫結構陶瓷，在工業(yè)生產和科技領域有重要用途。

（1）Al與NaOH溶液反應的離子方程式為???????????????????????????????????? 。

（2）下列實驗能比較鎂和鋁的金屬性強弱的是???? ??? ?? （填序號）。

a．測定鎂和鋁的導電性強弱

b．測定等物質的量濃度的Al2(SO4)3和MgSO4溶液的pH

c．向0.1 mol/LAlCl3和0.1 mol/L MgCl2中加過量NaOH溶液

（3）鋁熱法是常用的金屬冶煉方法之一。

已知：4Al (s)+3O2(g) =2Al2O3(s)??? ΔH1 = -3352 kJ/mol

Mn(s)+ O2(g) =MnO2 (s)???? ΔH2 = -521 kJ/mol

Al與MnO2反應冶煉金屬Mn的熱化學方程式是?????????????????????? ????? 。

（4）氮化硅抗腐蝕能力很強，但易被氫氟酸腐蝕，氮化硅與氫氟酸反應生成四氟化硅和一種銨鹽，其反應方程式為??????????????????? ????????? ???????????? 。

（5）工業(yè)上用化學氣相沉積法制備氮化硅，其反應如下：3SiCl4(g) + 2N2(g) + 6H2(g) Si3N4(s) + 12HCl(g)?? △H＜0??

某溫度和壓強條件下，分別將0.3mol SiCl4(g)、0.2mol N2(g)、0.6mol H2(g)充入2L密閉容器內，進行上述反應，5min達到平衡狀態(tài)，所得Si3N4(s)的質量是5.60g。

①H2的平均反應速率是???????? mol／(L·min)。

②若按n(SiCl4) : n(N2) : n(H2) = 3 : 2 : 6的投料配比，向上述容器不斷擴大加料，SiCl4(g)的轉化率應????? （填“增大”、“減小”或“不變”）。

（6）298K時，Ksp[Ce(OH)4]＝1×10—29。Ce(OH)4的溶度積表達式為Ksp＝?????????????? 。

為了使溶液中Ce4＋沉淀完全，即殘留在溶液中的c(Ce4+)小于1×10－5mol·L－1，需調節(jié)pH為????? 以上。

（5分）金屬鎳及其化合物在合金材料以及催化劑等方面應用廣泛。請回答下列問題：

（1）Ni原子的基態(tài)電子排布式為______________________________；

（2）NiO、FeO的晶體結構類型均與氯化鈉的相同，Ni²⁺和Fe²⁺的離子半徑分別為69 pm和78 pm，則熔點NiO ________ FeO(填“<”或“>”)；

（3）金屬鎳與鑭(La)形成的合金是一種良好的儲氫材料，其晶胞結構示意圖如左下圖示。該合金的化學式為_______________；

（4）丁二酮肟常用于檢驗Ni²⁺：在稀氨水介質中，丁二酮肟與Ni²⁺反應可生成鮮紅色沉淀，其結構如右上圖所示。該結構中，氮原子的雜化軌道類型為_______________。氧原子的雜化軌道類型為_______________。