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				金屬單質(zhì)的性質(zhì):  ⑴金屬晶體:金屬單質(zhì)形成的晶體都屬于金屬晶體.它們由         構(gòu)成,金屬晶體有                 通性.  ⑵金屬單質(zhì)的化學(xué)性質(zhì):  ①金屬在化學(xué)反應(yīng)中都較容易失去電子被氧化:.可以根據(jù)           判斷金屬單質(zhì)還原性的強弱.  ②金屬單質(zhì)跟酸反應(yīng)的規(guī)律:  按金屬活動性順序表                                A.與非氧化性酸反應(yīng):                          能與非氧化性酸發(fā)生置換反應(yīng).實質(zhì)是:    金屬原子失去電子數(shù)與被還原的離子數(shù).生成的的分子數(shù)之間存在什么關(guān)系?                                                       ＝                   等物質(zhì)的量的金屬與足量的酸反應(yīng).生成物質(zhì)的量多少決定于什么?                                                       等質(zhì)量的金屬跟足量的酸反應(yīng)生成的多少應(yīng)如何判斷?                                                        B.與強氧化性酸的反應(yīng):  和遇冷的濃硫酸.濃硝酸發(fā)生鈍化反應(yīng).  強氧化性酸跟金屬反應(yīng)不能生成.為什么?寫出典型的幾個反應(yīng):			【查看更多】
			

		
           
          

		
          
				
          題目列表(包括答案和解析)
          
		
		
          

          


          
	
          				
          
									
          晶體硅是一種重要的非金屬材料．制備純硅的主要步驟如下：
          ①高溫下用碳還原二氧化硅制得粗硅   ②粗硅與干燥HCl氣體反應(yīng)制SiHCl3：Si+3HCl
           300℃ 
          .
           
          SiHCl3+H2
          ③SiHCl3與過量H2在1000～1100℃反應(yīng)制得純硅．
          已知SiHCl3能與H2O強烈反應(yīng)，在空氣中易自燃．請回答下列問題：
          （1）第①步制備粗硅的化學(xué)反應(yīng)方程式為
          SiO2+2C
           高溫 
          .
           
          Si+2CO↑
          SiO2+2C
           高溫 
          .
           
          Si+2CO↑
          ．
          （2）粗硅與HCl反應(yīng)完全后，經(jīng)冷凝得到的SiHCl3（沸點33.0℃）中含有少量SiCl4（沸點57.6℃）和HCl（沸點-84.7℃），提純SiHCl3采用的方法為：
          分餾
          分餾
          ．
          （3）用SiHCl3與過量H2反應(yīng)制備純硅的裝置如下（熱源及夾持裝置略去）：
          ①裝置B中的試劑是
          濃硫酸
          濃硫酸
          ，裝置C中的燒瓶需要加熱，其目的是：
          使滴入燒瓶中的SiHCl3氣化
          使滴入燒瓶中的SiHCl3氣化
          ．
          ②反應(yīng)一段時間后，裝置D中觀察到的現(xiàn)象是
          英管的內(nèi)壁附有灰黑色晶體
          英管的內(nèi)壁附有灰黑色晶體
          ，裝置D不能采用普通玻璃管的原因是
          高溫下，普通玻璃會軟化
          高溫下，普通玻璃會軟化
          ，裝置D中發(fā)生反應(yīng)的化學(xué)方程式為
          SiHCl3+H2
           高溫 
          .
           
          Si+3HCl
          SiHCl3+H2
           高溫 
          .
           
          Si+3HCl
          ．
          ③為保證制備純硅實驗的成功，操作的關(guān)鍵是檢查實驗裝置的氣密性，控制好反應(yīng)溫度以及
          先通一段時間H2，將裝置中的空氣排盡
          先通一段時間H2，將裝置中的空氣排盡
          ．
          ④為鑒定產(chǎn)品硅中是否含微量鐵單質(zhì)，將試樣用稀鹽酸溶解，取上層清液后需再加入的試劑（填寫字母代號）是
          bd
          bd

          a．碘水b．氯水c．NaOH溶液d．KSCN溶液e．Na2SO3溶液．
          

			
          
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          晶體硅是一種重要的非金屬材料，制備高純硅的主要流程如圖所示：

          已知SiHCl3能與H2O強烈反應(yīng)，生成一種可燃燒的單質(zhì)氣體和兩種酸．請回答下列問題：
          （1）寫出制備粗硅的化學(xué)方程式
          SiO2+2C
           高溫 
          .
           
          Si+2CO
          SiO2+2C
           高溫 
          .
           
          Si+2CO
          ．
          （2）在生成SiHCl3的反應(yīng)中，還原劑與還原產(chǎn)物的質(zhì)量比為
          14：1
          14：1
          ．
          （3）整個制備過程必須控制無水無氧，若有水可能發(fā)生的反應(yīng)是
          3SiHCl3+3H2O=H2SiO3+H2↑+3HCl、C+H2O
           高溫 
          .
           
          CO+H2
          3SiHCl3+3H2O=H2SiO3+H2↑+3HCl、C+H2O
           高溫 
          .
           
          CO+H2
          ．
          （4）下列關(guān)于硅及其化合物的敘述錯誤的是
          B C D
          B C D
          （填字母代號）
          A．二氧化硅晶體中硅氧原子間以共價鍵結(jié)合
          B．用于現(xiàn)代通訊的光導(dǎo)纖維的主要成分是高純度的硅
          C．硅與碳位于同一主族，性質(zhì)相似，在自然界中廣泛存在著游離態(tài)的硅
          D．SiO2和CO2都是酸性氧化物，均可與強堿（如NaOH）溶液反應(yīng)，而不與任何酸反應(yīng)．
          

			
          
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           晶體硅是一種重要的非金屬材料。制備純硅的主要步驟如下：
          ①高溫下用碳還原二氧化硅制得粗硅。
          ②粗硅與干燥的HCl氣體反應(yīng)制得SiHCl3：Si+3HClSiHCl3+H2。
          ③SiHCl3與過量的H2在1000～1100℃時反應(yīng)制得純硅。
          已知SiHCl3（沸點33.0℃）能與H2O強烈反應(yīng)，在空氣中易自燃。
          請回答下列問題：
          （1）第①步制備粗硅的化學(xué)方程式為____________________。
          （2）用SiHCl3與過量的H2反應(yīng)制備純硅的裝置如下（熱源及夾持裝置已略去）：

          ①裝置B中的試劑是______________，裝置C中的燒瓶需要加熱，其目的是_______________。
          ②反應(yīng)一段時間后，裝置D中觀察到的現(xiàn)象是__________________，裝置D不能采用普通玻璃管的原因是______________，裝置D中發(fā)生反應(yīng)的化學(xué)方程式為_______________。
          ③為保證制備純硅實驗的成功，操作的關(guān)鍵是檢查實驗裝置的氣密性，控制好反應(yīng)溫度以及_________________________。
          ④為鑒定產(chǎn)品硅中是否含微量鐵單質(zhì)，將試樣用稀鹽酸溶解，取上層清液后需再加入的試劑（填寫字母代號）是_____________。
          a.碘水  b.氯水  c.NaOH溶液  d.KSCN溶液  e.Na2SO3溶液
          

			
          
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          晶體硅是一種重要的非金屬材料。制備純硅的主要步驟如下： 
          ①高溫下用碳還原二氧化硅制得粗硅?
          ②粗硅與干燥HCl氣體反應(yīng)制得SiHCl3：Si+3HClEquation.3SiHCl3+H2?
          ③SiHCl3與過量H2在1 000～1 100 ℃反應(yīng)制得純硅?
          已知SiHCl3能與H2O強烈反應(yīng)，在空氣中易自燃。?
          請完成下列問題：?
          （1）第①步制備粗硅的化學(xué)反應(yīng)方程式為________________。?
          （2）粗硅與HCl反應(yīng)完全后，經(jīng)冷凝得到的SiHCl3（沸點33.0 ℃）中含有少量SiCl4（沸點57.6 ℃）和HCl（沸點－84.7 ℃），提純SiHCl3采用的方法為：________________。
          （3）用SiHCl3與過量H2反應(yīng)制備純硅的裝置如下（熱源及夾持裝置略去）：?
          ①裝置B中的試劑是________，裝置C中的燒瓶需要加熱，其目的是：________________。?
          ②反應(yīng)一段時間后，裝置D中觀察到的現(xiàn)象是________________________，裝置D不能采用普通玻璃管的原因是________________，裝置D中發(fā)生反應(yīng)的化學(xué)方程式為________________________。?
          ③為保證制備純硅實驗的成功，操作的關(guān)鍵是檢查實驗裝置的氣密性，控制好反應(yīng)溫度以及________________________________。?
          ④為鑒定產(chǎn)品硅中是否含微量鐵單質(zhì)，將試樣用稀鹽酸溶解，取上層清液后需再加入的試劑（填寫字母代號）是________。?
          a.碘水　
          b.氯水　
          c.NaOH溶液　
          d.KSCN溶液　
          e.Na2SO3溶液
          

			
          
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          晶體硅是一種重要的非金屬材料，制備純硅的主要步驟如下： 
          ①高溫下用碳還原二氧化硅制得粗硅
          ②粗硅與干燥HCl氣體反應(yīng)制得SiHCl3:
          Si+3HClSiHCl3+H2
          ③SiHCl與過量H2在1 000—1 100℃反應(yīng)制得純硅
          已知SiHCl3能與H2O強烈反應(yīng)，在空氣中易自然。
          請回答下列問題：
          (1)第①步制備粗硅的化學(xué)反應(yīng)方程式為__________________________________________。
          (2)粗硅與HCl反應(yīng)完全后，經(jīng)冷凝得到的SiHCl3(沸點33.0℃)中含有少量SiCl4(沸點57.6℃)和HCl(沸點-84.7℃),提純SiHCl3采用的方法為_______。
          (3)用SiHCl3與過量H2反應(yīng)制備純硅的裝置如圖1-3-8(熱源及夾持裝置略去)：
          圖1-3-8
          ①裝置B中的試劑是_______。
          裝置C中的燒瓶需要加熱，其目的是_____________________________________________。
          ②反應(yīng)一段時間后，裝置D中觀察到的現(xiàn)象是______________________________________。
          裝置D不能采用普通玻璃管的原因是_______________，裝置D中發(fā)生反應(yīng)的化學(xué)方程式為______________________________。
          ③為保證制備純硅實驗的成功，操作的關(guān)鍵是檢查實驗裝置的氣密性，控制好反應(yīng)溫度以及_______。
          ④為鑒定產(chǎn)品硅中是否含微量鐵單質(zhì)，將試樣用稀鹽酸溶解，取上層清液后需再加入的試劑(填寫字母代號)是_______。
          a.碘水  b.氯水  c.NaOH溶液  d.KSCN溶液  e.Na2SO3溶液
          

			
          
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