日韩亚洲一区中文字幕,日韩欧美三级中文字幕在线,国产伦精品一区二区三区,免费在线欧美性爱链接

      1. <sub id="o5kww"></sub>
        
<legend id="o5kww"></legend>
        <style id="o5kww"><abbr id="o5kww"></abbr></style>
        <strong id="o5kww"><u id="o5kww"></u></strong>
        

        2. 


          
	
          
		
	
          
	
          
		
          
			
		
          
		
          
	
          

          



          

          

          


          


          
	
          
			
          
			
				 5種			【查看更多】
			

		
           
          

		
          
				
          題目列表(包括答案和解析)
          
		
		
          

          


          
	
          				
          
									
          (5分)晶體硅是一種重要的非金屬材料，制備純硅的主要步驟如下：
          ①高溫下用碳還原二氧化硅制得粗硅
          ②粗硅與干燥HCl氣體反應(yīng)制得SiHCl3：Si + 3HCl（g） SiHCl3 + H2（g）
          ③SiHCl3與過量H2在1000-1100℃反應(yīng)制得純硅：
          SiHCl3（g）+ H2（g） Si（s）+ 3HCl（g）
          已知SiHCl3能與H2O劇烈反應(yīng)，且在空氣中易自燃。
          用SiHCI3與過量H2反應(yīng)制備純硅的裝置如下（熱源及夾持裝置略去）

          (1)裝置B中的試劑是             
          (2)反應(yīng)一段時(shí)間后，裝置D中觀察到的現(xiàn)象是          ，裝置D不能采用普通玻璃管的原因是        。
          (3)為保證制備純硅實(shí)驗(yàn)的成功，操作的關(guān)鍵是檢查實(shí)驗(yàn)裝置的氣密性，控制好反應(yīng)溫度以及              。
          (4)為鑒定產(chǎn)品硅中是否含微量鐵單質(zhì)，將試樣用稀鹽酸溶解，取上層清液后需再加入的試劑是           。（填寫字母代號(hào)） 
          a．碘水     b.氯水     c. NaOH溶液    d. KSCN溶液    e. Na2SO3溶液
          

			
          
				查看答案和解析>>
			
          
		
          
				
          
									
          (5分)晶體硅是一種重要的非金屬材料，制備純硅的主要步驟如下：
          


          ①高溫下用碳還原二氧化硅制得粗硅
          


          ②粗硅與干燥HCl氣體反應(yīng)制得SiHCl3 ：Si + 3HCl（g） SiHCl3 + H2（g） 
          


          ③SiHCl3與過量H2在1000-1100℃反應(yīng)制得純硅：
          


          SiHCl3（g） + H2（g）
Si（s）+ 3HCl（g）
          


          已知SiHCl3能與H2O劇烈反應(yīng)，且在空氣中易自燃。
          


          用SiHCI3與過量H2反應(yīng)制備純硅的裝置如下（熱源及夾持裝置略去）
          


          


           (1)裝置B中的試劑是             

          


          (2)反應(yīng)一段時(shí)間后，裝置D中觀察到的現(xiàn)象是           ，裝置D不能采用普通玻璃管的原因是         。
          


          (3)為保證制備純硅實(shí)驗(yàn)的成功，操作的關(guān)鍵是檢查實(shí)驗(yàn)裝置的氣密性，控制好反應(yīng)溫度以及              
。
          


          (4)為鑒定產(chǎn)品硅中是否含微量鐵單質(zhì)，將試樣用稀鹽酸溶解，取上層清液后需再加入的試劑是           
。（填寫字母代號(hào)）  
          


          a．碘水    
b.氯水     c. NaOH溶液    d.
KSCN溶液    e. Na2SO3溶液
          


           
          

			
          
				查看答案和解析>>
			
          
		
          
				
          
									
          (5分)晶體硅是一種重要的非金屬材料，制備純硅的主要步驟如下：
          ①高溫下用碳還原二氧化硅制得粗硅
          ②粗硅與干燥HCl氣體反應(yīng)制得SiHCl3：Si + 3HCl（g） SiHCl3 + H2（g）
          ③SiHCl3與過量H2在1000-1100℃反應(yīng)制得純硅：
          SiHCl3（g）+ H2（g） Si（s）+ 3HCl（g）
          已知SiHCl3能與H2O劇烈反應(yīng)，且在空氣中易自燃。
          用SiHCI3與過量H2反應(yīng)制備純硅的裝置如下（熱源及夾持裝置略去）

          (1)裝置B中的試劑是             
          (2)反應(yīng)一段時(shí)間后，裝置D中觀察到的現(xiàn)象是          ，裝置D不能采用普通玻璃管的原因是        。
          (3)為保證制備純硅實(shí)驗(yàn)的成功，操作的關(guān)鍵是檢查實(shí)驗(yàn)裝置的氣密性，控制好反應(yīng)溫度以及              。
          (4)為鑒定產(chǎn)品硅中是否含微量鐵單質(zhì)，將試樣用稀鹽酸溶解，取上層清液后需再加入的試劑是           。（填寫字母代號(hào)） 
          a．碘水     b.氯水     c. NaOH溶液    d. KSCN溶液    e. Na2SO3溶液
          

			
          
				查看答案和解析>>
			
          
		
          
				
          
									
          五種短周期元素的部分性質(zhì)數(shù)據(jù)如下：
          

          


          
元素
T
X
Y
Z
W
          

          
原子半徑（nm）
0.037
0.075
0.099
0.102
0.143
          

          
最高或最低化合價(jià)
+1
+5
          -3          		
+7
          -1          		
+6
          -2          		
+3
          （1）Z離子的結(jié)構(gòu)示意圖為
          ．
          （2）關(guān)于Y、Z兩種元素，下列敘述正確的是
          b
          b
          （填序號(hào)）．
          a．簡單離子的半徑 Y＞Z     b．氣態(tài)氫化物的穩(wěn)定性Y比 Z強(qiáng)
          c．最高價(jià)氧化物對(duì)應(yīng)水化物的酸性Z比Y強(qiáng)
          （3）甲是由T、X兩種元素形成的10e-分子，乙是由Y、W兩種元素形成的化合物．
          某同學(xué)設(shè)計(jì)了右圖所示裝置（夾持儀器省略）進(jìn)行實(shí)驗(yàn)，將甲的濃溶液逐滴加入到NaOH固體中，燒瓶中即有甲放出，原因是
          NH3+H2ONH3?H2ONH4++OH-，NaOH溶于水電離出OH-，使平衡向左移動(dòng)，且溶解時(shí)放出熱量，使NH3的溶解度減小
          NH3+H2ONH3?H2ONH4++OH-，NaOH溶于水電離出OH-，使平衡向左移動(dòng)，且溶解時(shí)放出熱量，使NH3的溶解度減小
          ．一段時(shí)間后，發(fā)生反應(yīng)的離子方程式是
          Al3++3NH3?H2O=Al（OH）3↓+3NH4+
          Al3++3NH3?H2O=Al（OH）3↓+3NH4+
          ．
          （4）XO2是導(dǎo)致光化學(xué)煙霧的“罪魁禍?zhǔn)住敝唬粴溲趸c溶液吸收的化學(xué)方程式是：2XO2+2NaOH=M+NaXO3+H2O（已配平），產(chǎn)物M中元素X的化合價(jià)為
          +3
          +3
          ．
          

			
          
				查看答案和解析>>
			
          
		
          
				
          
									
          ①25℃，難溶電解質(zhì)的溶度積常數(shù)：Ksp[CaF2]＝1.5×10-10，Ksp[Mg(OH)2]=1.8×10-11，Ksp [Cu(OH)2]=2.2×10-20
            
          ②弱電解質(zhì)在水溶液中存在電離常數(shù)：例如一元弱酸HAH++A-，其電離常數(shù)表達(dá)式 Ka= c（H+）·c (A-)/ c (HA)（各濃度為平衡時(shí)濃度）。該常數(shù)與濃度、壓強(qiáng)無關(guān)，只是溫度的函數(shù)。25℃，醋酸的Ka=1.76×10-5
            
          ③25℃時(shí)，2.0×10-3mol·L-1氫氟酸水溶液中，調(diào)節(jié)溶液pH（忽略體積變化），得到
            
          c（HF）、c（F-）與溶液pH的變化關(guān)系，如下圖所示：
            
           
            
          請(qǐng)根據(jù)以上信息回答下列問題：                       
            
          （1）25℃時(shí)，向濃度均為0.1 mol·L-1的MgCl2和CuCl2混合溶液中逐滴加入氨水，先生成__________沉淀（填化學(xué)式），生成該沉淀的離子方程式為       。
            
          （2）25℃時(shí)，HF電離常數(shù)的數(shù)值Ka            ，列式并說明得出該常數(shù)的理由                                                       。
            
          （3）25℃時(shí)，向濃度均為0.1 mol·L-1的相同體積的HF和醋酸兩種溶液中分別加入相同的足量鋅粒，初始時(shí)產(chǎn)生氫氣的速率關(guān)系為         （填“＞”“＝”或“＜”，下同）。反應(yīng)結(jié)束后，產(chǎn)生氫氣的物質(zhì)的量的關(guān)系為     ，兩溶液中c (F-)      c (CH3COO-)。
            
          （4）25℃時(shí)，4.0×10-3mol·L-1HF溶液與4.0×10-4 mol·L-1 CaCl2溶液等體積混合，調(diào)節(jié)混合液pH為4.0（忽略調(diào)節(jié)混合液體積的變化），通過列式計(jì)算說明是否有沉淀產(chǎn)生。
          

			
          
				查看答案和解析>>
			
          
		
          
						
          
				
          
	
          
	
          
		
          


          同步練習(xí)冊(cè)答案