（12分）不同的金屬在化學反應中表現出來的活潑程度不同，俄國化學家貝開托夫在大量實驗和系統(tǒng)研究之后，于1865年發(fā)表了金屬活動性順序：K Ca Na Mg Al Zn Fe SnPb (H) Cu Hg Ag Pt Au 。

（1）金屬活動性順序是學習“金屬及其化合物”的重要工具，許多“金屬及其化合物”的知識規(guī)律可以通過金屬活動性順序來掌握。例如，工業(yè)上冶煉金屬，根據金屬活動性順序可以采用不同的冶煉方法。其中可以用“熱分解法”冶煉的金屬是__________、        。

工業(yè)上又常用下列反應進行金屬鉀的冶煉：，似乎“違背”了金屬活動性順序，試解釋鈉能將更活潑的鉀置換出來的原因__________________________。

（2）在實踐中發(fā)現還有許多化學事實 “違背”金屬活動性順序，但這些“反�！爆F象都可以通過化學原理得到合理解釋。某學生在做探究實驗時，把鋅粒投入1mol·L^-1氯化鐵溶液中，觀察到如下實驗現象：鋅粒表面有一定量氣泡產生，溶液顏色逐漸變淺，一段時間后溶液逐漸渾濁，試用相關反應方程式進行解釋_________________________________、

__________________________________________________________________________。

（3）研究金屬活動性順序還可以指導對金屬陽離子氧化性強弱的認識，工業(yè)上用氯化鐵溶液腐蝕銅制電路板。

①請根據金屬活動性順序結合該反應原理，比較Cu²⁺、Fe³⁺、Fe²⁺的氧化性強弱        。

②請運用原電池原理設計實驗驗證Cu²⁺、Fe³⁺氧化性強弱的結論。

方案______________________________________________________________________。

不同的金屬在化學反應中表現出來的活潑程度不同，早在1812年瑞典化學家貝采里烏斯根據大量實驗現象首先提出了金屬活動順序的概念，后來俄國化學家貝開托夫在大量實驗和系統(tǒng)研究之后，于1865年發(fā)表了金屬活動性順序：K Ca Na Mg Al Zn Fe Sn Pb （H） Cu Hg Ag Pt Au．
（1）金屬活動性順序是學習“金屬及其化合物”的重要工具，許多“金屬及其化合物”的知識規(guī)律可以通過金屬活動性順序來掌握．例如，工業(yè)上冶煉金屬，根據金屬活動性順序可以采用不同的冶煉方法．其中可以用“熱分解法”冶煉的金屬是______、______．
工業(yè)上又常用下列反應進行金屬鉀的冶煉：Na+KClK↑+NaCl，似乎“違背”了金屬活動性順序，試解釋鈉能將更活潑的鉀置換出來的原因______．
（2）在實踐中發(fā)現還有許多化學事實“違背”金屬活動性順序，但這些“反�！爆F象都可以通過化學原理得到合理解釋．某學生在做探究實驗時，把鋅粒投入1mol?L^-1氯化鐵溶液中，觀察到如下實驗現象：鋅粒表面有一定量氣泡產生，溶液顏色逐漸變淺，一段時間后溶液逐漸渾濁，試用相關反應方程式進行解釋______、______．
（3）研究金屬活動性順序還可以指導對金屬陽離子氧化性強弱的認識，工業(yè)上用氯化鐵溶液腐蝕銅制電路板．
①請根據金屬活動性順序結合該反應原理，比較Cu²⁺、Fe³⁺、Fe²⁺的氧化性強弱______．
②請運用原電池原理設計實驗驗證Cu²⁺、Fe³⁺氧化性強弱的結論．
方案：______．

清洗和制絨是硅晶片制作的重要步驟之一，硅片化學清洗的主要目的是除去硅片表面雜質（如某些有機物，無機鹽，金屬、Si、SiO₂粉塵等）。常用的化學清洗劑有高純水、有機溶劑、雙氧水、濃酸、強堿等。其中去除硅的氧化物，通常用一定濃度的HF溶液，室溫條件下將硅片浸泡1至數分鐘。制絨是在硅片表面形成金字塔形的絨面，增加硅對太陽光的吸收。單晶制絨通常用NaOH，Na₂SiO₃等混合溶液在75～90℃反應25～35 min，效果良好。

回答下列問題

（1）能否用玻璃試劑瓶來盛HF溶液，為什么?用化學方程式加以解釋                           ；

（2）寫出晶片制絨反應的離子方程式                                    ，對單晶制絨1990年化學家Seidel提出了一種的電化學模型，他指出Si與NaOH溶液的反應，首先是Si與OH^一反應，生成SiO₄^4一，然后SiO₄^4一迅速水解生成H₄SiO₄�；�于此原理分析反應中氧化劑為                     。

（3）本�；瘜W興趣小組同學，為驗證Seidel的理論是否正確，完成以下實驗：

結論：從實驗上說明堿性水溶液條件下，H₂O可作                 劑；NaOH作               劑，降低反應             。高溫無水環(huán)境下，NaOH作               劑。

（4）在太陽能電池表面沉積深藍色減反膜——氮化硅晶膜。常用硅烷（SiH₄）與氨氣（NH₃）在等離子體中反應。硅烷是一種無色、有毒氣體，常溫下與空氣和水劇烈反應。下列關于硅烷、氮化硅的敘述不正確的是                。

A．在使用硅烷時要注意隔離空氣和水，SiH₄能與水發(fā)生氧化還原反應生成H₂；

B．硅烷與氨氣反應的化學方程式為：3SiH₄+4NH₃＝Si₃N₄+12H₂↑，反應中NH₃作氧化劑；

C．它們具有卓越的抗氧化、絕緣性能和隔絕性能，化學穩(wěn)定性很好，不與任何酸、堿反應；

D．氮化硅晶體中只存在共價鍵，Si₃N₄是優(yōu)良的新型無機非金屬材料。

清洗和制絨是硅晶片制作的重要步驟之一，硅片化學清洗的主要目的是除去硅片表面雜質（如某些有機物，無機鹽，金屬、Si、SiO₂粉塵等）。常用的化學清洗劑有高純水、有機溶劑、雙氧水、濃酸、強堿等。其中去除硅的氧化物，通常用一定濃度的HF溶液，室溫條件下將硅片浸泡1至數分鐘。制絨是在硅片表面形成金字塔形的絨面，增加硅對太陽光的吸收。單晶制絨通常用NaOH，Na₂SiO₃等混合溶液在75～90℃反應25～35 min，效果良好。
回答下列問題
（1）能否用玻璃試劑瓶來盛HF溶液，為什么?用化學方程式加以解釋                          ；
（2）寫出晶片制絨反應的離子方程式                                   ，對單晶制絨1990年化學家Seidel提出了一種的電化學模型，他指出Si與NaOH溶液的反應，首先是Si與OH^一反應，生成SiO₄^4一，然后SiO₄^4一迅速水解生成H₄SiO₄�；�于此原理分析反應中氧化劑為                    。
（3）本�；瘜W興趣小組同學，為驗證Seidel的理論是否正確，完成以下實驗：