Question

【題目】“太空涂鴉”技術(shù)的基本物理模型是：原來在較低圓軌道運行的攻擊衛(wèi)星在變軌后接近在較高圓軌道上運行的偵察衛(wèi)星時，向其發(fā)射“漆霧”彈，“漆霧”彈在臨近偵察衛(wèi)星時，壓爆彈囊，讓“漆霧”散開并噴向偵察衛(wèi)星，噴散后強力吸附在偵察衛(wèi)星的偵察鏡頭、太陽能板、電子偵察傳感器等關(guān)鍵設備上，使之暫時失效。關(guān)于這一過程下列說法正確的是（ ）

A.攻擊衛(wèi)星在原軌道上運行的周期比偵察衛(wèi)星的周期大

B.攻擊衛(wèi)星到達新軌道后，其動能較原軌道小

C.攻擊衛(wèi)星到達新軌道后，其機械能較原軌道增多

D.攻擊衛(wèi)星在原軌道需要減速才能變軌接近偵察衛(wèi)星

Answer 1

【答案】BC

【解析】

衛(wèi)星繞地球做勻速圓周運動，由萬有引力提供向心力，則有：

解得衛(wèi)星的線速度，周期

A.由，可知攻擊衛(wèi)星在原軌道上半徑r小，則其周期小于偵察衛(wèi)星的周期，故A錯誤；

B.由和可得：衛(wèi)星的動能，可知攻擊衛(wèi)星到達新軌道后，半徑增大，則其動能減小，故B正確；

CD.攻擊衛(wèi)星要從低軌道變到高軌道，則在原軌道需要點火加速做離心運動，故攻擊衛(wèi)星到達新軌道后，其機械能較原軌道增多，故C正確，D錯誤。