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        1. 精英家教網 > 高中化學 > 題目詳情

          (12分)多晶硅(硅單質的一種)被稱為“微電子大廈的基石”,制備中副產物以SiCl4為主,它環(huán)境污染很大,能遇水強烈水解,放出大量的熱。研究人員利用SiCl4水解生成的鹽酸和鋇礦粉(主要成分為BaCO3,且含有鐵、鎂等離子),制備BaCl2.2H2O,工藝流程如下:

          已知:

          ①常溫下Fe3+、Mg2+完全沉淀的PH分別是3.4、12.4

          ②BaCO3的相對分子質量是197;BaCl2.2H2O的相對分子質量是244

          回答下列問題:

          ⑴SiCl4發(fā)生水解反應的化學方程式_______________________________________

          ⑵SiCl4用H2還原可制取純度很高的硅,當反應中有1mol電子轉移時吸收59KJ熱量,則該反應的熱化學方程式為_____________________________________________

          ⑶加鋇礦粉調節(jié)PH=7的作用是①使BaCO3轉化為BaCl2 ②_______________________

          ⑷生成濾渣A的離子方程式__________________________________________

          ⑸BaCl2濾液經______、________、過濾、_________,再經真空干燥后得到BaCl2.2H2O

          ⑹10噸含78.8% BaCO3的鋇礦粉理論上最多能生成BaCl2.2H2O___________噸。

           

          【答案】

          (1)SiCl4+4H2O=H4SiO4↓+4HCl。

          (2)SiCl4(s)+2H2(g)=Si(s)+4HCl(g)  △H=+236KJ/mol

          (3)使Fe3+完全沉淀。         (4)Mg2++2OH-=Mg(OH)2

          (5)蒸發(fā)濃縮,降溫結晶,洗滌。     (6)9.76

          【解析】

          試題分析:(1)SiCl4發(fā)生水解反應的化學方程式為:SiCl4+4H2O=H4SiO4↓+4HCl。

          (2)1mol SiCl4被還原成Si時轉移4mol電子,所以熱化學方程式為:SiCl4(s)+2H2(g)=Si(s)+4HCl(g)  △H=+236KJ/mol。

          (3)根據題意可知pH=7時,F(xiàn)e3+完全沉淀。

          (4)當pH=12.5時,Mg2+完全沉淀,所以濾渣A是Mg(OH)2,反應方程式為:Mg2++2OH-=Mg(OH)2↓。

          (5)BaCl2濾液經蒸發(fā)濃縮,降溫結晶,過濾,洗滌再真空干燥后得到BaCl2.2H2O。

          (6)根據BaCO3—BaCl2·2H2O可知10噸含78.8% BaCO3的鋇礦理論上產生BaCl2·2H2O為。

          考點:工藝流程

          點評:本題主要考查學生對工藝流程的分析能力,難度適中。

           

          練習冊系列答案
          相關習題

          科目:高中化學 來源: 題型:

          多晶硅(硅單質的一種)被稱為“微電子大廈的基石”,制備中副產物以SiCl4為主,它對環(huán)境污染很大,能遇水強烈水解,放出大量的熱.研究人員利用SiCl4水解生成的鹽酸和鋇礦粉(主要成份為BaCO3,且含有鐵、鎂等離子)制備BaCl2?2H2O,工藝流程如下.已知:①常溫下Fe3+、Mg2+完全沉淀的pH分別是:3.4、12.4.
          ②M (BaCO3)=197g/mol,M(BaCl2?2H2O)=244g/mol

          (1)SiCl4水解反應的方程式為
          SiCl4+4H2O=H4SiO4↓+4HCl.
          SiCl4+4H2O=H4SiO4↓+4HCl.
          ,SiCl4水解控制在40℃的原因是
          防止HCl揮發(fā)污染環(huán)境或控制SiCl4的水解速率,防止反應過于劇烈
          防止HCl揮發(fā)污染環(huán)境或控制SiCl4的水解速率,防止反應過于劇烈

          (2)已知:SiCl4(s)+H2(g)=SiHCl3(s)+HCl(g)△H1=+47kJ/mol
          SiHCl3(s)+H2(g)=Si(s)+3HCl(g)△H2=+189kJ/mol則由SiCl4制備硅的熱化學方程式為
          SiCl4(s)+2H2(g)=Si(s)+4HCl(g)△H=+236kJ/mol
          SiCl4(s)+2H2(g)=Si(s)+4HCl(g)△H=+236kJ/mol

          (3)加鋇礦粉并調節(jié)pH=7的作用是使BaCO3轉化為BaCl2
          使Fe3+完全沉淀
          使Fe3+完全沉淀

          (4)加20% NaOH調節(jié)pH=12.5,得到濾渣A的主要成分是
          Mg(OH)2
          Mg(OH)2

          (5)BaCl2濾液經
          蒸發(fā)濃縮
          蒸發(fā)濃縮
          、冷卻結晶、
          過濾
          過濾
          、洗滌,再經真空干燥后得到BaCl2?2H2O.

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          科目:高中化學 來源: 題型:

          (2010?揚州模擬)多晶硅(硅單質的一種)被稱為“微電子大廈的基石”,制備中副產物以SiCl4為主,它對環(huán)境污染很大,能遇水強烈水解,放出大量的熱.研究人員利用SiCl4水解生成的鹽酸和鋇礦粉(主要成份為BaCO3,且含有鈣、鐵、鎂等離子)制備BaCl2?2H2O,工藝流程如下.已知常溫下Fe3+、Mg2+完全沉淀的pH分別是:3.4、12.4. 
            
          (1)SiCl4水解控制在40℃以下的原因是
          防止HCl揮發(fā)污染環(huán)境或控制SiCl4的水解速率,防止反應過于劇烈
          防止HCl揮發(fā)污染環(huán)境或控制SiCl4的水解速率,防止反應過于劇烈

          已知:SiCl4(s)+H2(g)=SiHCl3(s)+HCl(g)△H1=+47kJ/mol;SiHCl3(s)+H2(g)=Si(s)+3HCl(g)△H2=+189kJ/mol
          則由SiCl4制備硅的熱化學方程式為
          SiCl4(s)+2H2(g)=Si(s)+4HCl(g)△H=+236kJ/mol
          SiCl4(s)+2H2(g)=Si(s)+4HCl(g)△H=+236kJ/mol

          (2)加鋇礦粉時生成BaCl2的離子反應方程式是
          BaCO3+2H+=Ba2++CO2+H2O↑
          BaCO3+2H+=Ba2++CO2+H2O↑

          (3)加20% NaOH調節(jié)pH=12.5,得到濾渣A的主要成分是
          Mg(OH)2、Ca(OH)2
          Mg(OH)2、Ca(OH)2
          ,控制溫度70℃的目的是
          確保鈣離子完全除去(或溫度越高,Ca(OH)2溶解度越。
          確保鈣離子完全除去(或溫度越高,Ca(OH)2溶解度越小)

          (4)BaCl2濾液經蒸發(fā)濃縮、降溫結晶、過濾,再經真空干燥后得到?2H2O.實驗室中蒸發(fā)濃縮用到的含硅酸鹽的儀器有
          3
          3
          種.
          (5)為體現(xiàn)該工藝的綠色化學思想,該工藝中能循環(huán)利用的物質是
          BaCl2溶液
          BaCl2溶液

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          科目:高中化學 來源: 題型:

          (2011?佛山一模)多晶硅(硅單質的一種)被稱為“微電子大廈的基石”,制備中副產物以SiCl4為主,它對環(huán)境污染很大,能遇水強烈水解,放出大量的熱.研究人員利用SiCl4水解生成的鹽酸和鋇礦粉(主要成份為BaCO3,且含有鐵、鎂等離子)制備BaCl2?2H2O,工藝流程如下.

          已知:①常溫下Fe3+、Mg2+完全沉淀的pH分別是:3.4、12.4.
          ②M (BaCO3)=197g/mol,M(BaCl2?2H2O)=244g/mol
          (1)SiCl4水解反應的方程式為
          SiCl4+4H2O=H4SiO4↓+4HCl
          SiCl4+4H2O=H4SiO4↓+4HCl
          .已知:
          SiCl4(s)+H2(g)=SiHCl3(s)+HCl(g)△H1=+47kJ/mol  
          SiHCl3(s)+H2(g)=Si(s)+3HCl(g)△H2=+189kJ/mol
          則由SiCl4制備硅的熱化學方程式為
          SiCl4(s)+2H2(g)=Si(s)+4HCl(g)△H=+236kJ/mol
          SiCl4(s)+2H2(g)=Si(s)+4HCl(g)△H=+236kJ/mol

          (2)加鋇礦粉并調節(jié)pH=7的作用是使BaCO3轉化為BaCl2
          使Fe3+完全沉淀
          使Fe3+完全沉淀

          (3)加20% NaOH調節(jié)pH=12.5,得到濾渣A的主要成分是
          Mg(OH)2
          Mg(OH)2

          (4)BaCl2濾液經
          蒸發(fā)濃縮
          蒸發(fā)濃縮
          、
          過濾
          過濾
          、過濾、洗滌,再經真空干燥后得到BaCl2?2H2O.
          (5)10噸含78.8% BaCO3的鋇礦粉理論上最多能生成BaCl2?2H2O
          9.76
          9.76
          噸.

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          科目:高中化學 來源:2012-2013學年江西省協(xié)作體高三5月第二次聯(lián)考化學試卷(解析版) 題型:計算題

          多晶硅(硅單質的一種)被稱為“微電子大廈的基石”,制備中副產物以SiCl4為主,它環(huán)境污染很大,能遇水強烈水解,放出大量的熱。研究人員利用SiCl4水解生成的鹽酸和鋇礦粉(主要成分為BaCO3,且含有鐵、鎂等離子)制備BaCl2·2H2O,工藝流程如下:

          已知:

          ①常溫下Fe3+、Mg2+完全沉淀的pH分別是3.4、12.4

          ②BaCO3的相對分子質量是197;BaCl2·2H2O的相對分子質量是244

          回答下列問題:

          (1)SiCl4發(fā)生水解反應的化學方程式為_______________________________________

          (2)用H2還原SiCl4蒸汽可制取純度很高的硅,當反應中有1mol電子轉移時吸收59KJ熱量,則該反   應的熱化學方程式為_____________________________________________

          (3)加鋇礦粉并調節(jié)pH=7的目的是①                ,②               

          (4)過濾②后的濾液中Fe3+濃度為           (濾液溫度25℃,Ksp[Fe(OH)3]=2.2×10-38

          (5)生成濾渣A的離子方程式__________________________________________

          (6)列式計算出10噸含78.8% BaCO3的鋇礦粉理論上最多能生成BaCl2·2H2O的質量為多少噸?

           

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