Question

【題目】高純度單晶硅是典型的無機非金屬材料，又稱“半導體”材料，它的發(fā)現(xiàn)和使用曾引起計算機的一場“革命”。這種材料可以按下列方法制備，下列說法正確的是

SiO2 Si(粗) SiHCl3 Si(純)

A. 步驟①的化學方程式為SiO2＋CSi＋CO2↑

B. 步驟①、②、③中每生成或反應1 mol Si，轉移2 mol電子

C. 二氧化硅能與氫氟酸反應，而硅不能與氫氟酸反應

D. SiHCl3(沸點33.0 ℃)中含有少量的SiCl4(沸點67.6 ℃)，通過蒸餾可提純SiHCl3

Answer 1

【答案】D

【解析】

二氧化硅與碳高溫條件下生成硅和一氧化碳；SiO2 Si(粗)，硅元素化合價由+4變?yōu)?/span>0；硅能與氫氟酸反應生成SiF4和氫氣； SiHCl3(沸點33.0 ℃)、SiCl4(沸點67.6 ℃)，沸點相差較大。

步驟①的化學方程式為SiO2＋2CSi＋2CO↑，故A錯誤；SiO2 Si(粗)，硅元素化合價由+4變?yōu)?/span>0，生成1 mol Si，轉移4mol電子，故B錯誤；硅能與氫氟酸反應生成SiF4和氫氣，故C錯誤；SiHCl3(沸點33.0 ℃)、SiCl4(沸點67.6 ℃)，沸點相差較大，可以通過蒸餾提純SiHCl3，故D正確。