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          我國目前廣泛應(yīng)用三氯氫硅氫還原法制備多晶硅。制備三氯氫硅的反應(yīng)為：
          


          Si(s)＋3HCl(g) == SiHCl3(g)＋H2(g)  
ΔH=-210 kJ/mol。
          


          伴隨的副反應(yīng)有：Si(s)＋4HCl(g)
== SiCl4(g)＋2H2(g)   ΔH=-241 kJ/mol。
          


          SiCl4在一定條件下與H2反應(yīng)可轉(zhuǎn)化為SiHCl3，反應(yīng)的熱化學(xué)方程式為：
          


          A．SiCl4＋H2 == SiHCl3＋HCl   ΔH= +31 kJ/mol
          


          B．SiCl4＋H2 == SiHCl3＋2HCl  ΔH= -31 kJ/mol
          


          C．SiCl4(g)＋H2(g) ==
SiHCl3(g)＋HCl(g)  ΔH=+31 kJ/mol
          


          D．SiCl4(g)＋H2(g) ==
SiHCl3(g)＋2HCl(g)  ΔH= -31 kJ/mol
          


           
          			
          


			
          

		
          
		
		
	
          
		
          
			
          
				
          
				【答案】






          C
          


          【解析】略
          


           
          				
          
							
          
			
          
			
          
			
			
          
		
          
	
          

		
          

		





			
          
		
          
		
				
          
				練習(xí)冊系列答案
		
          
		
				
			

					
          
				相關(guān)習(xí)題
			
          
						
		
          
			
          
				科目：高中化學(xué)
				來源：
				題型：
			
          

						
          我國目前制備多晶硅主要采用三氯氫硅氫還原法、硅烷熱解法和四氯化硅氫還原法．由于三氯氫硅還原法具有一定優(yōu)點(diǎn)，被廣泛應(yīng)用．其簡化的工藝流程如圖所示：
          精英家教網(wǎng)
          （1）制備三氯氫硅的反應(yīng)為：Si（s）+3HCl（g）═SiHCl3（g）+H2（g）△H=-210kJ?mol-1．
          伴隨的副反應(yīng)有：Si（s）+4HCl（g）═SiCl4（g）+2H2（g）△H=-241kJ?mol-1．
          SiCl4在一定條件下與H2反應(yīng)可轉(zhuǎn)化為SiHCl3，反應(yīng)的熱化學(xué)方程式為：
          SiCl4（g）+H2（g）═SiHCl3（g）+HCl（g）△H=
           
          ．
          （2）由純SiHCl3制備高純硅的化學(xué)反應(yīng)方程式為
           
          ．該生產(chǎn)工藝中可以循環(huán)使用的物質(zhì)是
           
          （至少寫出兩種）．
          （3）由于SiH4具有易提純的特點(diǎn)，因此硅烷熱分解法是制備高純硅很有發(fā)展?jié)摿Φ姆椒ǎI(yè)上廣泛采用的合成硅烷方法是讓硅化鎂和固體氯化銨在液氨介質(zhì)中反應(yīng)得到硅烷，化學(xué)方程式是
           
          ；整個(gè)制備過程必須嚴(yán)格控制無水，否則反應(yīng)將不能生成硅烷，而是生成硅酸和氫氣等，其化學(xué)方程式為
           
          ；整個(gè)系統(tǒng)還必須與氧隔絕，其原因是
           
          ．
          

			
          

			
          
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				科目：高中化學(xué)
				來源：2012屆北京市順義區(qū)高三尖子生綜合素質(zhì)展示化學(xué)試卷
				題型：單選題
			
          

						
          我國目前廣泛應(yīng)用三氯氫硅氫還原法制備多晶硅。制備三氯氫硅的反應(yīng)為：
          Si(s)＋3HCl(g) ="=" SiHCl3(g)＋H2(g)  ΔH="-210" kJ/mol。
          伴隨的副反應(yīng)有：Si(s)＋4HCl(g) ="=" SiCl4(g)＋2H2(g)  ΔH="-241" kJ/mol。
          SiCl4在一定條件下與H2反應(yīng)可轉(zhuǎn)化為SiHCl3，反應(yīng)的熱化學(xué)方程式為：
          A．SiCl4＋H2 ="=" SiHCl3＋HClΔH=" +31" kJ/mol
          B．SiCl4＋H2 ="=" SiHCl3＋2HCl ΔH=" -31" kJ/mol
          C．SiCl4(g)＋H2(g) ="=" SiHCl3(g)＋HCl(g) ΔH="+31" kJ/mol
          D．SiCl4(g)＋H2(g) ="=" SiHCl3(g)＋2HCl(g) ΔH=" -31" kJ/mol
          

			
          

			
          
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				科目：高中化學(xué)
				來源：
				題型：單選題
			
          

						
          我國目前廣泛應(yīng)用三氯氫硅氫還原法制備多晶硅。制備三氯氫硅的反應(yīng)為：
          Si(s)+3HCl(g) = SiHCl3(g)+H2(g)  ΔH=-210 kJ/mol。
          伴隨的副反應(yīng)有：Si(s)+4HCl(g) = SiCl4(g)+2H2(g)  ΔH=-241 kJ/mol。
          SiCl4在一定條件下與H2反應(yīng)可轉(zhuǎn)化為SiHCl3，反應(yīng)的熱化學(xué)方程式為：

          1. A.
            SiCl4+H2 = SiHCl3+HClΔH=+31 kJ/mol
          2. B.
            SiCl4+H2 = SiHCl3+2HCl ΔH=-31 kJ/mol
          3. C.
            SiCl4(g)+H2(g) = SiHCl3(g)+HCl(g) ΔH=+31 kJ/mol
          4. D.
            SiCl4(g)+H2(g) = SiHCl3(g)+2HCl(g) ΔH=-31 kJ/mol
          

			
          

			
          
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				科目：高中化學(xué)
				來源：
				題型：
			
          

						
          我國目前廣泛應(yīng)用三氯氫硅氫還原法制備多晶硅。制備三氯氫硅的反應(yīng)為：
          Si(s)＋3HCl(g) == SiHCl3(g)＋H2(g)  ΔH=-210 kJ/mol。
          伴隨的副反應(yīng)有：Si(s)＋4HCl(g)== SiCl4(g)＋2H2(g)   ΔH=-241 kJ/mol。
          SiCl4在一定條件下與H2反應(yīng)可轉(zhuǎn)化為SiHCl3，反應(yīng)的熱化學(xué)方程式為：
          A．SiCl4＋H2 == SiHCl3＋HCl   ΔH= +31 kJ/mol
          B．SiCl4＋H2 == SiHCl3＋2HCl  ΔH= -31 kJ/mol
          C．SiCl4(g)＋H2(g) ==SiHCl3(g)＋HCl(g)  ΔH=+31 kJ/mol
          D．SiCl4(g)＋H2(g) ==SiHCl3(g)＋2HCl(g)  ΔH= -31 kJ/mol
           
          

			
          

			
          
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