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        1. 已知Si能與HF(aq)和NaOH(aq)反應(yīng):

          Si+4HFSiF4↑+2H2

          Si+2NaOH+H2ONa2SiO3+2H2

          又知硅及其化合物間存在如下圖所示的關(guān)系:

          其中A是制造芯片和光電池的主要原料;B是含硅化合物中的一種氣體;某些C可作干燥劑或催化劑的載體;D是一種黏合劑,能將磨砂玻璃黏合在一起;E是一種比H2CO3酸性還弱的酸.

          試回答下列問(wèn)題:

          (1)寫(xiě)出A、C、E的化學(xué)式:A________、C________、E________.

          (2)①~⑦反應(yīng)中,屬于氧化還原反應(yīng)的是________,屬于置換反應(yīng)的是________,屬于離子反應(yīng)的是________.

          答案:
          解析:

            答案:(1)Si SiO2 H2SiO3 (2)①③④、佗堋、堍茛

            解析:本題突破口較多,B是含硫的一種氣體,說(shuō)明B為SiF4,C為硅膠SiO2,D為Na2SiO3,E為H2SiO3

            ①~⑦反應(yīng)分別是:

           、i+4HFF4↑+2H2↑.是氧化還原反應(yīng),也是置換反應(yīng),不是離子反應(yīng)(氫氟酸是弱酸,在溶液中HF的電離微弱,不能拆為離子形式).

           、赟iO2+4HFSiF4↑+2H2O.不是氧化還原反應(yīng),不是置換反應(yīng),也不是離子反應(yīng).

            ③22是氧化還原反應(yīng),不是置換反應(yīng),也不是離子反應(yīng).

           、+2NaONa2O3+22↑ Si+2OH+H2O+2H2↑.是氧化還原反應(yīng),是置換反應(yīng)(有單質(zhì)和化合物參加,也有單質(zhì)和化合物生成),也是離子反應(yīng):

           、2NaOH+SiO2══Na2SiO3+H2O 2OH+SiO2SiO2-3+H2O.不是氧化還原反應(yīng),也不是置換反應(yīng),是離子反應(yīng):

           、轓a2SiO3+2HCl══2NaCl+H2SiO3↓ SiO2-3+2H+H2SiO3↓.不是氧化還原反應(yīng),也不是置換反應(yīng),是離子反應(yīng):

           、逪2SiO3H2O+SiO2.不是氧化還原反應(yīng),不是置換反應(yīng),也不是離子反應(yīng).


          練習(xí)冊(cè)系列答案
          相關(guān)習(xí)題

          科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:閱讀理解

          (2013?朝陽(yáng)區(qū)二模)硅是信息產(chǎn)業(yè)、太陽(yáng)能電池光電轉(zhuǎn)化的基礎(chǔ)材料.鋅還原四氯化硅是一種有著良好應(yīng)用前景的制備硅的方法,該制備過(guò)程示意如下:

          (1)焦炭在過(guò)程Ⅰ中作
          還原
          還原
          劑.
          (2)過(guò)程Ⅱ中的Cl2用電解飽和食鹽水制備,制備Cl2的化學(xué)方程式是
          2NaCl+2H2O
           通電 
          .
           
          2NaOH+Cl2↑+H2
          2NaCl+2H2O
           通電 
          .
           
          2NaOH+Cl2↑+H2

          (3)整個(gè)制備過(guò)程必須嚴(yán)格控制無(wú)水.
          ①SiCl4遇水劇烈水解生成SiO2和一種酸,反應(yīng)的化學(xué)方程式是
          SiCl4+2H2O═SiO2+4HCl
          SiCl4+2H2O═SiO2+4HCl

          ②干燥Cl2時(shí),從有利于充分干燥和操作安全的角度考慮,需將約90℃的潮濕氯氣先冷卻至12℃,然后再通入到濃H2SO4中.冷卻的作用是
          使水蒸氣冷凝,減少進(jìn)入濃硫酸的水量保持持續(xù)的吸水性并降低放出的熱量
          使水蒸氣冷凝,減少進(jìn)入濃硫酸的水量保持持續(xù)的吸水性并降低放出的熱量

          (4)Zn還原SiCl4的反應(yīng)如下:
          反應(yīng)1:400℃~756℃,SiCl4(g)+2Zn(l)?Si(s)+2ZnCl2(l)△H1<0
          反應(yīng)2:756℃~907℃,SiCl4(g)+2Zn(l)?Si(s)+2ZnCl2(g)△H2<0
          反應(yīng)3:907℃~1410℃,SiCl4(g)+2Zn(g)?Si(s)+2ZnCl2(g)△H3<0
          ①對(duì)于上述三個(gè)反應(yīng),下列說(shuō)法合理的是
          bcd
          bcd

          a.升高溫度會(huì)提高SiCl4的轉(zhuǎn)化率      b.還原過(guò)程需在無(wú)氧的氣氛中進(jìn)行
          c.增大壓強(qiáng)能提高反應(yīng)的速率         d.Na、Mg可以代替Zn還原SiCl4
          ②實(shí)際制備過(guò)程選擇“反應(yīng)3”,選擇的理由是
          溫度高反應(yīng)速率快;與前兩個(gè)反應(yīng)比較更易于使硅分離使化學(xué)平衡向右移動(dòng)提高轉(zhuǎn)化率
          溫度高反應(yīng)速率快;與前兩個(gè)反應(yīng)比較更易于使硅分離使化學(xué)平衡向右移動(dòng)提高轉(zhuǎn)化率

          ③已知Zn(l)═Zn(g)△H=+116KJ/mol.若SiCl4的轉(zhuǎn)化率均為90%,每投入1mol SiCl4,“反應(yīng)3”比“反應(yīng)2”多放出
          208.8
          208.8
          kJ的熱量.
          (5)用硅制作太陽(yáng)能電池時(shí),為減弱光在硅表面的反射,采用化學(xué)腐蝕法在其表面形成粗糙的多孔硅層.腐蝕劑常用稀HNO3和HF的混合液.硅表面首先形成SiO2,最后轉(zhuǎn)化為H2SiF6.用化學(xué)方程式表示SiO2轉(zhuǎn)化為H2SiF6的過(guò)程
          SiO2+6HF═H2SiF6+2H2O
          SiO2+6HF═H2SiF6+2H2O

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          科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:

          已知Si能與HF(aq)和NaOH(aq)反應(yīng):

          Si+4HF══SiF4↑+2H2

          Si+2NaOH+H2O══Na2SiO3+2H2

          又知硅及其化合物間存在如下圖所示的關(guān)系:

          其中A是制造芯片和光電池的主要原料;B是含硅化合物中的一種氣體;某些C可作干燥劑或催化劑的載體;D是一種黏合劑,能將磨砂玻璃黏合在一起;E是一種比H2CO3酸性還弱的酸。

          試回答下列問(wèn)題:

          (1)寫(xiě)出A、C、E的化學(xué)式:A________、C________、E________。

          (2)①~⑦反應(yīng)中,屬于氧化還原反應(yīng)的是________,屬于置換反應(yīng)的是________,屬于離子反應(yīng)的是________。

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          科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:

          已知Si能與HF(aq)和NaOH(aq)反應(yīng):Si+4HF══SiF4↑+2H2↑ Si+2NaOH+H2O══Na2SiO3+2H2↑,又知硅及其化合物間存在如下圖所示的關(guān)系:

          其中A是制造芯片和光電池的主要原料;B是含硅化合物中的一種氣體;某些C可作干燥劑或催化劑的載體;D是一種黏合劑,能將磨砂玻璃黏合在一起;E是一種比H2CO3酸性還弱的酸。

          試回答下列問(wèn)題:

          (1)寫(xiě)出A、C、E的化學(xué)式:A________、C________、E________。

          (2)①~⑦反應(yīng)中,屬于氧化還原反應(yīng)的是________,屬于置換反應(yīng)的是________,屬于離子反應(yīng)的是________。

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