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          實(shí)驗(yàn)室分別制備H2、NO2、CH4、NO、NH3氣體時(shí)，只能用排水法收集的氣體是_______________，只能用排空氣法收集的氣體是__________________，既能用排水法又能用排空氣法收集的氣體是__________________。
          			
          


			
          

		
          
		
		
	
          
		
          
			
          
				
          
				
          NO  NO2、NH3  H2、CH4
            
          解析:
          排空氣法根據(jù)氣體是否與空氣反應(yīng)；排水法根據(jù)氣體是否易溶于水或與水發(fā)生反應(yīng)。
          				
          
							
          
			
          
			
          
			
			
          
		
          
	
          

		
          

		





			
          
		
          
		
				
          
				練習(xí)冊(cè)系列答案
		
          
		
				
			

					
          
				相關(guān)習(xí)題
			
          
						
		
          
			
          
				科目：高中化學(xué)
				來(lái)源：
				題型：閱讀理解
			
          

						
          （2013?濰坊模擬）工業(yè)上電解飽和食鹽水能制取多種化工原料，其中部分原料可用于制備多晶硅．下圖1是離子交換膜法（允許鈉離子通過(guò)，不允許氫氧根與氯離子通過(guò)）電解飽和食鹽水，電解槽陽(yáng)極產(chǎn)生的氣體是
          氯氣
          氯氣
          ，NaOH溶液的出口為
          a
          a
          （填字母），精制飽和食鹽水的進(jìn)口為
          d
          d
          （填字母），干燥塔中應(yīng)使用的液體是
          濃硫酸
          濃硫酸
          ．

          （1）多晶硅主要采用SiHCl3還原工藝生產(chǎn)，其副產(chǎn)物SiCl4的綜合利用受到廣泛關(guān)注．SiCl4可制氣相白炭黑（與光導(dǎo)纖維主要原料相同），方法為高溫下SiCl4、H2、O2反應(yīng)，產(chǎn)物有兩種，化學(xué)方程式為
          SiCl4+2H2+O2 
           高溫 
          .
           
          SiO2+4HCl
          SiCl4+2H2+O2 
           高溫 
          .
           
          SiO2+4HCl
          ．SiCl4可轉(zhuǎn)化為SiCl3而循環(huán)使用．一定條件下，在20L恒容密閉容器中反應(yīng)3SiCl4（g）+2H2（g）+Si（s）═4SiHCl3（g）達(dá)平衡后，H2與SiHCl3物質(zhì)的量濃度分別為0.140mol/L和0.020mol/L，若H2全部來(lái)源于離子交換膜法的電解產(chǎn)物，理論上需消耗NaCl的質(zhì)量為
          0.35
          0.35
          kg．
          （2）如圖2，實(shí)驗(yàn)室制備H2和Cl2通常采用下列反應(yīng)：
          Zn+H2SO4?ZnSO4+H2↑，MnO2+4HCl(濃)
          △
          .
          .
          MnCl2+Cl2↑+2H2O
          據(jù)此，從下列所給儀器裝置中選擇制備并收集H2的裝置
          e
          e
          （填代號(hào)）和制備并收集干燥、純凈Cl2的裝置
          d
          d
          （填代號(hào)）．
          可選用制備氣體的裝置：
          （3）采用無(wú)膜電解槽電解飽和食鹽水，可制取氯酸鈉，同時(shí)生成氫氣．現(xiàn)制得氯酸鈉213.0kg，則生成氫氣
          134.4
          134.4
          m3（標(biāo)準(zhǔn)狀況）．（忽略可能存在的其他反應(yīng)）
          

			
          

			
          
			查看答案和解析>>		
          
				
		
          
			
          
				科目：高中化學(xué)
				來(lái)源：
				題型：閱讀理解
			
          

						
          （2012?長(zhǎng)寧區(qū)一模）Ⅰ．工業(yè)上電解飽和食鹽能制取多種化工原料，其中部分原料可用于制備多晶硅．
          （1）原料粗鹽中常含有泥沙和Ca2+、Mg2+、Fe3+、SO42-等雜質(zhì)，必須精制后才能供電解使用．精制時(shí)，粗鹽溶于水過(guò)濾后，還要加入的試劑分別為①Na2CO3、②HCl（鹽酸）③BaCl2，這3種試劑添加的合理順序是
          ③①②
          ③①②
          （填序號(hào)）洗滌除去NaCl晶體表面附帶的少量KCl，選用的試劑為
          ③
          ③
          ．（填序號(hào)）（①飽和Na2CO3溶液  ②飽和K2CO3溶液  ③75%乙醇�、芩穆然迹�
          （2）如圖是離子交換膜（允許鈉離子通過(guò)，不允許氫氧根與氯離子通過(guò)）法電解飽和食鹽水示意圖，電解槽陽(yáng)極產(chǎn)生的氣體是
          氯氣
          氯氣
          ；NaOH溶液的出口為
          a
          a
          （填字母）；精制飽和食鹽水的進(jìn)口為
          d
          d
          （填字母）；干燥塔中應(yīng)使用的液體是
          濃硫酸
          濃硫酸
          ．

          Ⅱ．多晶硅主要采用SiHCl3還原工藝生產(chǎn)，其副產(chǎn)物SiCl4的綜合利用受到廣泛關(guān)注．
          （1）SiCl4可制氣相白炭黑（與光導(dǎo)纖維主要原料相同），方法為高溫下SiCl4與H2和O2反應(yīng)，產(chǎn)物有兩種，化學(xué)方程式為
          SiCl4+2H2+O2
           高溫 
          .
           
          SiO2+4HCl
          SiCl4+2H2+O2
           高溫 
          .
           
          SiO2+4HCl
          ．
          （2）SiCl4可轉(zhuǎn)化為SiHCl3而循環(huán)使用．一定條件下，在20L恒容密閉容器中的反應(yīng)：
          3SiCl4（g）+2H2（g）+Si（s）?4SiHCl3（g）
          達(dá)平衡后，H2與SiHCl3物質(zhì)的量濃度分別為0.140mol/L和0.020mol/L，若H2全部來(lái)源于離子交換膜法的電解產(chǎn)物，理論上需消耗純NaCl的質(zhì)量為
          0.351
          0.351
          kg．
          （3）實(shí)驗(yàn)室制備H2和Cl2通常采用下列反應(yīng)：
          Zn+H2SO4→ZnSO4+H2↑；MnO2+4HCl（濃）
          △
          MnCl2+Cl2↑+2H2O
          據(jù)此，從下列所給儀器裝置中選擇制備并收集H2的裝置
          e
          e
          （填代號(hào)）和制備并收集干燥、純凈Cl2的裝置
          d
          d
          （填代號(hào)）．
          可選用制備氣體的裝置：

          （4）采用無(wú)膜電解槽電解飽和食鹽水，可制取氯酸鈉，同時(shí)生成氫氣，現(xiàn)制得氯酸鈉213.0kg，則生成氫氣
          134.4
          134.4
          m3（標(biāo)準(zhǔn)狀況）．（忽略可能存在的其他反應(yīng)）
          某工廠(chǎng)生產(chǎn)硼砂過(guò)程中產(chǎn)生的固體廢料，主要含有MgCO3、MgSiO3、CaMg（CO3）2、Al2O3和Fe2O3等，回收其中鎂的工藝流程如下：

          

          


          
沉淀物
Fe（OH）3
Al（OH）3
Mg（OH）2
          

          
PH
3.2
5.2
12.4
          Ⅲ．部分陽(yáng)離子以氫氧化物形式完全沉淀時(shí)溶液的pH見(jiàn)上表，請(qǐng)回答下列問(wèn)題：
          （1）“浸出”步驟中，為提高鎂的浸出率，可采取的措施有
          適當(dāng)提高反應(yīng)溫度、增加浸出時(shí)間
          適當(dāng)提高反應(yīng)溫度、增加浸出時(shí)間
          （要求寫(xiě)出兩條）．
          （2）濾渣I的主要成分是
          Fe（OH）3、Al（OH）3
          Fe（OH）3、Al（OH）3
          ．
          Mg（ClO3）2在農(nóng)業(yè)上可用作脫葉劑、催熟劑，可采用復(fù)分解反應(yīng)制備：
          MgCl2+2NaClO3→Mg（ClO3）2+2NaCl
          已知四種化合物的溶解度（S）隨溫度（T）變化曲線(xiàn)如圖所示：

          （3）將反應(yīng)物按化學(xué)反應(yīng)方程式計(jì)量數(shù)比混合制備Mg（ClO3）2．簡(jiǎn)述可制備Mg（ClO3）2的原因：
          在某一溫度時(shí)，NaCl最先達(dá)到飽和析出；Mg（ClO3）2的溶解度隨溫度變化的最大，NaCl的溶解度與其他物質(zhì)的溶解度有一定的差別；
          在某一溫度時(shí)，NaCl最先達(dá)到飽和析出；Mg（ClO3）2的溶解度隨溫度變化的最大，NaCl的溶解度與其他物質(zhì)的溶解度有一定的差別；
          ．
          （4）按題（3）中條件進(jìn)行制備實(shí)驗(yàn)．在冷卻降溫析出Mg（ClO3）2過(guò)程中，常伴有NaCl析出，原因是：
          降溫前，溶液中NaCl已達(dá)飽和，降低過(guò)程中，NaCl溶解度會(huì)降低，會(huì)少量析出；
          降溫前，溶液中NaCl已達(dá)飽和，降低過(guò)程中，NaCl溶解度會(huì)降低，會(huì)少量析出；
          ．除去產(chǎn)品中該雜質(zhì)的方法是：
          重結(jié)晶
          重結(jié)晶
          ．
          

			
          

			
          
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				科目：高中化學(xué)
				來(lái)源：
				題型：
			
          

						
          實(shí)驗(yàn)室分別制備H2、NO2、CH4、NO、NH3氣體時(shí)，只能用排水法收集的氣體是_______________，只能用排空氣法收集的氣體是__________________，既能用排水法又能用排空氣法收集的氣體是__________________。
          

			
          

			
          
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				科目：高中化學(xué)
				來(lái)源：濰坊模擬
				題型：問(wèn)答題
			
          

						
          工業(yè)上電解飽和食鹽水能制取多種化工原料，其中部分原料可用于制備多晶硅．下圖1是離子交換膜法（允許鈉離子通過(guò)，不允許氫氧根與氯離子通過(guò)）電解飽和食鹽水，電解槽陽(yáng)極產(chǎn)生的氣體是______，NaOH溶液的出口為_(kāi)_____（填字母），精制飽和食鹽水的進(jìn)口為_(kāi)_____（填字母），干燥塔中應(yīng)使用的液體是______．

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          （1）多晶硅主要采用SiHC13還原工藝生產(chǎn)，其副產(chǎn)物SiC14的綜合利用受到廣泛關(guān)注．SiC14可制氣相白炭黑（與光導(dǎo)纖維主要原料相同），方法為高溫下SiC14、H2、O2反應(yīng)，產(chǎn)物有兩種，化學(xué)方程式為_(kāi)_____．SiC14可轉(zhuǎn)化為SiC13而循環(huán)使用．一定條件下，在20L恒容密閉容器中反應(yīng)3SiC14（g）+2H2（g）+Si（s）═4SiHC13（g）達(dá)平衡后，H2與SiHC13物質(zhì)的量濃度分別為0.140mol/L和0.020mol/L，若H2全部來(lái)源于離子交換膜法的電解產(chǎn)物，理論上需消耗NaC1的質(zhì)量為_(kāi)_____kg．
          （2）如圖2，實(shí)驗(yàn)室制備H2和Cl2通常采用下列反應(yīng)：
          Zn+H2SO4?ZnSO4+H2↑，MnO2+4HC1(濃)
          △
          .
          .
          MnC12+C12↑+2H2O
          據(jù)此，從下列所給儀器裝置中選擇制備并收集H2的裝置______（填代號(hào)）和制備并收集干燥、純凈C12的裝置______（填代號(hào)）．
          可選用制備氣體的裝置：
          （3）采用無(wú)膜電解槽電解飽和食鹽水，可制取氯酸鈉，同時(shí)生成氫氣．現(xiàn)制得氯酸鈉213.0kg，則生成氫氣______m3（標(biāo)準(zhǔn)狀況）．（忽略可能存在的其他反應(yīng)）
          

			
          

			
          
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