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          （12分）近年來，我國的電子工業(yè)迅速發(fā)展，造成了大量的電路板蝕刻廢液的產生和排放。蝕刻液主要有酸性的（HCl—H2O2）、堿性的（NH3—NH4Cl）以及傳統(tǒng)的（HCl—FeCl3）等3種。蝕刻廢液中含有大量的Cu2+，廢液的回收利用可減少銅資源的流失。幾種蝕刻廢液的常用處理方法如下：
          ⑴ FeCl3型酸性廢液用還原法處理是利用Fe和Cl2分別作為還原劑和氧化劑，可回收銅并使蝕刻液再生。發(fā)生的主要化學反應有：Fe+Cu2+=Fe2++Cu、Fe+2H+=Fe2++H2↑，還
          有　　  　　 、　　     　　  。（用離子方程式表示）。
          ⑵ HCl—H2O2型蝕刻液蝕刻過程中發(fā)生的化學反應用化學方程式可表示為：
          　　   　            　  。
          ⑶ H2O2型酸性廢液處理回收微米級Cu2O過程中，加入的試劑A的最佳選擇是下列中的　  　　  （填序號）
          ①酸性KMnO4溶液       ②NaCl(固)         ③葡萄糖          ④甲醛
          ⑷ 處理H2O2型酸性廢液回收Cu2(OH)2CO3的過程中需控制反應的溫度，當溫度高于80℃時，產品顏色發(fā)暗，其原因可能是　　   　　  。
          ⑸ 堿性蝕刻液在蝕刻過程中發(fā)生的化學反應是：2Cu+4NH4Cl+4NH3·H2O+O2= 2Cu(NH3)4Cl2+6H2O，處理堿性蝕刻廢液過程中加入NH4Cl固體并通入NH3的目的是　　   　　  。
           
          			
          


			
          

		
          
		
		
	
          
		
          
			
          
				
          
				
          ⑴ Fe+2Fe3+=3Fe2+、2Fe2++Cl2=2Fe3++2Cl-
          ⑵ Cu+2HCl+H2O2=CuCl2+2H2O
          ⑶ ③
          ⑷ 溫度高會使產物部分分解產生黑色的氧化銅導致產品顏色發(fā)暗
          ⑸ 促使溶液中Cu(NH3)4Cl2結晶析出     （各2分）
          解析:略
           
          				
          
							
          
			
          
			
          
			
			
          
		
          
	
          

		
          

		





			
          
		
          
		
				
          
				練習冊系列答案
		
          
		
				
			

					
          
				相關習題
			
          
						
		
          
			
          
				科目：高中化學
				來源：
				題型：
			
          

						
          （2011?姜堰市二模）近年來，我國的電子工業(yè)迅速發(fā)展，造成了大量的電路板蝕刻廢液的產生和排放．蝕刻液主要有酸性的（HCl-H2O2）、堿性的（NH3-NH4Cl）以及傳統(tǒng)的（HCl-FeCl3）等3種．蝕刻廢液中含有大量的Cu2+，廢液的回收利用可減少銅資源的流失．幾種蝕刻廢液的常用處理方法如下：


          （1）FeCl3型酸性廢液用還原法處理是利用Fe和Cl2分別作為還原劑和氧化劑，可回收銅并使蝕刻液再生．發(fā)生的主要化學反應有：Fe+Cu2+=Fe2++Cu、Fe+2H+=Fe2++H2↑，還有
          Fe+2Fe3+=3Fe2+
          Fe+2Fe3+=3Fe2+
          、
          2Fe2++Cl2=2Fe3++2Cl-
          2Fe2++Cl2=2Fe3++2Cl-
          ．（用離子方程式表示）．
          （2）HCl-H2O2型蝕刻液蝕刻過程中發(fā)生的化學反應用化學方程式可表示為：
          Cu+2HCl+H2O2=CuCl2+2H2O
          Cu+2HCl+H2O2=CuCl2+2H2O
          ．
          （3）H2O2型酸性廢液處理回收微米級Cu2O過程中，加入的試劑A的最佳選擇是下列中的
          ③
          ③
          （填序號）
          ①酸性KMnO4溶液        ②NaCl（固）          ③葡萄糖          ④甲醛
          （4）處理H2O2型酸性廢液回收Cu2（OH）2CO3的過程中需控制反應的溫度，當溫度高于80℃時，產品顏色發(fā)暗，其原因可能是
          溫度高會使產物部分分解產生黑色的氧化銅導致產品顏色發(fā)暗
          溫度高會使產物部分分解產生黑色的氧化銅導致產品顏色發(fā)暗
          ．
          （5）堿性蝕刻液發(fā)生的化學反應是：2Cu+4NH4Cl+4NH3?H2O+O2=2Cu（NH3）4Cl2+6H2O，處理堿性蝕刻廢液過程中加入NH4Cl固體并通入NH3的目的是
          促使溶液中Cu（NH3）4Cl2結晶析出
          促使溶液中Cu（NH3）4Cl2結晶析出
          ．
          

			
          

			
          
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				科目：高中化學
				來源：2012屆江蘇省淮州中學高三上學期10月份月考化學試卷
				題型：實驗題
			
          

						
          （18分）近年來，我國的電子工業(yè)迅速發(fā)展，造成了大量的電路板蝕刻廢液的產生和排放。蝕刻液主要有酸性的（HCl—H2O2）、堿性的（NH3—NH4Cl）以及傳統(tǒng)的（HCl—FeCl3）等3種。蝕刻廢液中含有大量的Cu2+，廢液的回收利用可減少銅資源的流失。幾種蝕刻廢液的常用處理方法如下：

          ⑴ FeCl3型酸性廢液用還原法處理是利用Fe和Cl2分別作為還原劑和氧化劑，可回收銅并使蝕刻液再生。發(fā)生的主要化學反應有：Fe+Cu2+=Fe2++Cu、Fe+2H+=Fe2++H2↑，還
          有　　▲　　 、　　▲　　 。（用離子方程式表示）。
          ⑵ HCl—H2O2型蝕刻液蝕刻過程中發(fā)生的化學反應用化學方程式可表示為：
          　　▲　　 。
          ⑶ H2O2型酸性廢液處理回收微米級Cu2O過程中，加入的試劑A的最佳選擇是下列中的　　▲　　 （填序號）
          ①酸性KMnO4溶液        ②NaCl(固)          ③葡萄糖          ④甲醛
          ⑷ 處理H2O2型酸性廢液回收Cu2(OH)2CO3的過程中需控制反應的溫度，當溫度高于80℃時，產品顏色發(fā)暗，其原因可能是　　▲　　 。
          ⑸ 堿性蝕刻液發(fā)生的化學反應是：2Cu+4NH4Cl+4NH3·H2O+O2 = 2Cu(NH3)4Cl2+6H2O，處理堿性蝕刻廢液過程中加入NH4Cl固體并通入NH3的目的是　　▲　　 。
          

			
          

			
          
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				科目：高中化學
				來源：2011-2012學年浙江省高三上學期期中考試化學試卷
				題型：填空題
			
          

						
          （12分）近年來，我國的電子工業(yè)迅速發(fā)展，造成了大量的電路板蝕刻廢液的產生和排放。蝕刻液主要有酸性的（HCl—H2O2）、堿性的（NH3—NH4Cl）以及傳統(tǒng)的（HCl—FeCl3）等3種。蝕刻廢液中含有大量的Cu2+，廢液的回收利用可減少銅資源的流失。幾種蝕刻廢液的常用處理方法如下：
          


          


          ⑴ FeCl3型酸性廢液用還原法處理是利用Fe和Cl2分別作為還原劑和氧化劑，可回收銅并使蝕刻液再生。發(fā)生的主要化學反應有：Fe+Cu2+=Fe2++Cu、Fe+2H+=Fe2++H2↑，還
          


          有　　  　　 
、　　     　　  。（用離子方程式表示）。
          


          ⑵ HCl—H2O2型蝕刻液蝕刻過程中發(fā)生的化學反應用化學方程式可表示為：
          


          　　   　            
　  。
          


          ⑶ H2O2型酸性廢液處理回收微米級Cu2O過程中，加入的試劑A的最佳選擇是下列中的　  
　　  （填序號）
          


          ①酸性KMnO4溶液       
②NaCl(固)         
③葡萄糖          ④甲醛
          


          ⑷ 處理H2O2型酸性廢液回收Cu2(OH)2CO3的過程中需控制反應的溫度，當溫度高于80℃時，產品顏色發(fā)暗，其原因可能是　　   　　  。
          


          ⑸ 堿性蝕刻液在蝕刻過程中發(fā)生的化學反應是：2Cu+4NH4Cl+4NH3·H2O+O2
= 2Cu(NH3)4Cl2+6H2O，處理堿性蝕刻廢液過程中加入NH4Cl固體并通入NH3的目的是　　   　　  。
          


           
          

			
          

			
          
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				科目：高中化學
				來源：2011-2012學年江蘇省高三上學期10月份月考化學試卷
				題型：實驗題
			
          

						
          （18分）近年來，我國的電子工業(yè)迅速發(fā)展，造成了大量的電路板蝕刻廢液的產生和排放。蝕刻液主要有酸性的（HCl—H2O2）、堿性的（NH3—NH4Cl）以及傳統(tǒng)的（HCl—FeCl3）等3種。蝕刻廢液中含有大量的Cu2+，廢液的回收利用可減少銅資源的流失。幾種蝕刻廢液的常用處理方法如下：
          


          


           
          


          ⑴ FeCl3型酸性廢液用還原法處理是利用Fe和Cl2分別作為還原劑和氧化劑，可回收銅并使蝕刻液再生。發(fā)生的主要化學反應有：Fe+Cu2+=Fe2++Cu、Fe+2H+=Fe2++H2↑，還
          


          有　　▲　　 
、　　▲　　  。（用離子方程式表示）。
          


          ⑵ HCl—H2O2型蝕刻液蝕刻過程中發(fā)生的化學反應用化學方程式可表示為：
          


          　　▲　　  。
          


          ⑶ H2O2型酸性廢液處理回收微米級Cu2O過程中，加入的試劑A的最佳選擇是下列中的　　▲　　  （填序號）
          


          ①酸性KMnO4溶液       
②NaCl(固)         
③葡萄糖          ④甲醛
          


          ⑷ 處理H2O2型酸性廢液回收Cu2(OH)2CO3的過程中需控制反應的溫度，當溫度高于80℃時，產品顏色發(fā)暗，其原因可能是　　▲　　  。
          


          ⑸ 堿性蝕刻液發(fā)生的化學反應是：2Cu+4NH4Cl+4NH3·H2O+O2
= 2Cu(NH3)4Cl2+6H2O，處理堿性蝕刻廢液過程中加入NH4Cl固體并通入NH3的目的是　　▲　　  。
          


           
          

			
          

			
          
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