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          【題目】有機物E是制備鎮(zhèn)靜藥安寧G的中間體,E和G的兩種合成路線如下.(部分反應條件已略去)
          已知:

          回答下列問題:
          (1)A中所含官能團的名稱是 , 檢驗該分子中官能團的常用試劑是
          (2)A與C含有相同的官能團,B生成C的反應類型是
          (3)C生成D的化學方程式是
          (4)試劑a是
          (5)下列說法正確的是 . a.E能發(fā)生取代反應、氧化反應和消去反應 b.M與K是同系物 c.1mol K能跟2molNaOH發(fā)生反應
          (6)G的結構簡式是
          (7)在一定條件下E還能跟COCl2發(fā)生聚合反應生成高分子化合物,該反應的化學方程式是
          (8)G的同分異構體P,分子中含有“ ”結構,P的核磁共振氫譜有5組峰,P能水解生成CH3CH2NH2和甲,1mol甲跟足量鈉反應生成2mol H2 . 則P的結構簡式是

          【答案】
          (1)醛基;新制氫氧化銅(或銀氨溶液)
          (2)加成反應
          (3)
          (4)CH3Br
          (5)b、c
          (6)
          (7)
          (8)
          【解析】解:由題給信息可知B為CH3CH2CH=C(CH3)CHO,分子式為C6H10O,則C的分子式為C6H12O,可知B發(fā)生加成反應生成C,A與C含有相同的官能團,則C為CH3CH2CH2CH(CH3)CHO,D應為 ,與氫氣發(fā)生加成反應生成E為 ,由信息ii可知F為 ,G為 ,N的分子式為C10H18O4 , 由M→N的信息可知K為 ,試劑a為CH3Br等,(1)A含有醛基,具有還原性,可用新制氫氧化銅(或銀氨溶液)檢驗,所以答案是:醛基;新制氫氧化銅(或銀氨溶液);(2)C為CH3CH2CH2CH(CH3)CHO,B為CH3CH2CH=C(CH3)CHO,可與氫氣發(fā)生加成反應生成C,所以答案是:加成反應;(3)C生成D的化學方程式是 ,所以答案是: ;(4)由以上分析可知試劑a為CH3Br,所以答案是:CH3Br;(5)a.E為 ,含有羥基,可發(fā)生取代反應、氧化反應,但不能發(fā)生消去反應,故a錯誤; b.K為 ,與M結構相似,分子式不同,則M與K是同系物,故b正確; c.1mol K含有2mol酯基,能跟2mol NaOH發(fā)生反應,故c正確;所以答案是:b、c;(6)由以上分析可知G為 ,所以答案是: ;(7)E為 ,含有2個羥基,在一定條件下能跟COCl2發(fā)生聚合反應生成高分子化合物,該反應的化學方程式是 ,所以答案是: ;(8)G為 ,對應的同分異構體P,分子中含有“ ”結構,P的核磁共振氫譜有5組峰,說明有5種H原子, P能水解生成CH3CH2NH2和甲,1mol甲跟足量鈉反應生成2mol H2 . 說明甲含有2個羥基、2個羧基),則P的結構簡式是 ,所以答案是:

          練習冊系列答案
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          (1)CN中兩原子均為8電子穩(wěn)定結構,請寫出CN的電子式
          (2)氰化鈉遇水會產生劇毒氫氰酸,請寫出相應的離子方程式
          (3)向發(fā)生塔中通水蒸汽的目的是
          (4)氧化池中氰化物的降解分兩步進行,CN被氯氣氧化成低毒的CNO , 寫出相應的離子方程式 , CNO被氯氣氧化成無毒的兩種氣體,寫出相應的離子方程式
          (5)貯水池中廢水須先經堿化后再進行氧化的原因
          (6)電鍍廠電鍍銀時需要降低鍍層金屬的沉積速度,使鍍層更加致密.電解液使用Na[Ag(CN)2],請寫出陰極反應式 , 解釋工業(yè)電鍍中使用氰離子(CN)的原因

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