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        1. (13分)已知:A、B為常見(jiàn)的非金屬單質(zhì)且均為氣體;甲、乙為金屬單質(zhì),乙在I的濃溶液中發(fā)生鈍化;C、H、J的溶液均呈堿性.各物質(zhì)間的轉(zhuǎn)化關(guān)系如下(部分生成物未給出,且未注明反應(yīng)條件):

          ⑴寫(xiě)出反應(yīng)②的化學(xué)方程式                                             。

          ⑵反應(yīng)④中每消耗1 mol G,轉(zhuǎn)移電子的物質(zhì)的量為                   。

          ⑶反應(yīng)⑥的離子方程式是                                              

          ⑷寫(xiě)出工業(yè)冶煉金屬乙的化學(xué)方程式                                    。

          ⑸實(shí)驗(yàn)室中保存I的方法是                                            。

          ⑹SiCl4與過(guò)量A在加熱條件下反應(yīng)可制得高純硅,整個(gè)制備純硅的過(guò)程中必須嚴(yán)格控制無(wú)水無(wú)氧。SiCl4在潮濕的空氣中因水解而產(chǎn)生白色煙霧,其生成物是     ;H2還原SiCl4過(guò)程中若混入O2,可能引起的后果是               。

           

          (13分)

          ⑴4NH3+5O 4NO+6H2O (2分)

           ⑵2/3mol(2分)

           ⑶2Al+2H2O+2OH=== 2AlO+3H2↑(2分)

          ⑷2Al2O3(熔融) 4Al+3O2↑  (2分)

          ⑸保存在棕色試劑瓶中,放在陰涼處   (2分)

          ⑹H2SiO3(或H4SiO4)和HCl(2分)    爆炸(1分)

          解析:

           

          練習(xí)冊(cè)系列答案
          相關(guān)習(xí)題

          科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:

          已知:A、B為常見(jiàn)的非金屬單質(zhì)且均為氣體;甲、乙為金屬單質(zhì),乙在I的濃溶液中發(fā)生鈍化;C、H、J的溶液均呈堿性.各物質(zhì)間的轉(zhuǎn)化關(guān)系如下(部分生成物未給出,且未注明反應(yīng)條件):

          (1)寫(xiě)出反應(yīng)②的化學(xué)方程式
          4NH3+5O2
           催化劑 
          .
           
          4NO+6H2O
          4NH3+5O2
           催化劑 
          .
           
          4NO+6H2O

          (2)反應(yīng)④中每消耗1mol G,轉(zhuǎn)移電子的物質(zhì)的量為
          2
          3
          mol
          2
          3
          mol

          (3)反應(yīng)⑥的離子方程式是
          2Al+2H2O+2OH-═2AlO2-+3H2
          2Al+2H2O+2OH-═2AlO2-+3H2

          (4)實(shí)驗(yàn)室中保存I的方法是
          保存在棕色試劑瓶中,放在陰涼處
          保存在棕色試劑瓶中,放在陰涼處

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          科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:

          已知:A、B為常見(jiàn)的非金屬單質(zhì)且均為氣體;甲、乙為金屬單質(zhì),乙在I的濃溶液中發(fā)生鈍化;C、H、J的溶液均呈堿性.各物質(zhì)間的轉(zhuǎn)化關(guān)系如下(部分生成物未給出,且未注明反應(yīng)條件):
          (1)請(qǐng)寫(xiě)出下列物質(zhì)的化學(xué)式C
          NH3
          NH3
          、乙
          Al
          Al

          (2)分別寫(xiě)出反應(yīng)④⑥的化學(xué)方程式
          3NO2+H2O═2HNO3+NO
          3NO2+H2O═2HNO3+NO
          、
          2NaOH+2Al+6H2O═2Na[Al(OH)4]+3H2
          2NaOH+2Al+6H2O═2Na[Al(OH)4]+3H2

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          科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:

          (2012?開(kāi)封一模)已知:A、B為常見(jiàn)的非金屬單質(zhì)且均為氣體;甲、乙為金屬單質(zhì),乙在I的濃溶液中發(fā)生鈍化;C、H、J的溶液均呈堿性.各物質(zhì)間的轉(zhuǎn)化關(guān)系如下(部分生成物未給出,且未注明反應(yīng)條件):
          (1)寫(xiě)出反應(yīng)②的化學(xué)方程式
          4NH3+5O2
          催化劑
          .
          4NO+6H2O
          4NH3+5O2
          催化劑
          .
          4NO+6H2O

          (2)反應(yīng)④中每消耗1mol G,轉(zhuǎn)移電子的物質(zhì)的量為
          2
          3
          mol
          2
          3
          mol

          (3)反應(yīng)⑥的離子方程式是
          2Al+2H2O+2OH-═2AlO2-+3H2
          2Al+2H2O+2OH-═2AlO2-+3H2

          (4)寫(xiě)出工業(yè)冶煉金屬乙的化學(xué)方程式
          2Al2O3(熔融)
             電解   
          .
          冰晶石
          4Al+3O2
          2Al2O3(熔融)
             電解   
          .
          冰晶石
          4Al+3O2

          (5)實(shí)驗(yàn)室中保存I的方法是
          保存在棕色試劑瓶中,放在陰涼處
          保存在棕色試劑瓶中,放在陰涼處

          (6)SiCl4與過(guò)量A在加熱條件下反應(yīng)可制得高純硅,整個(gè)制備純硅的過(guò)程中必須嚴(yán)格控制無(wú)水無(wú)氧.SiCl4在潮濕的空氣中因水解而產(chǎn)生白色煙霧,其生成物是
          H2SiO3(或H4SiO4)和HCl
          H2SiO3(或H4SiO4)和HCl
          ;H2還原SiCl4過(guò)程中若混入O2,可能引起的后果是
          爆炸
          爆炸

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          科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:

          已知:A、B為常見(jiàn)的非金屬單質(zhì)且均為氣體;甲、乙為金屬單質(zhì),乙在I的濃溶液中發(fā)生鈍化;C、H、J的溶液均呈堿性.各物質(zhì)間的轉(zhuǎn)化關(guān)系如下(部分生成物未給出,且未注明反應(yīng)條件):

          (1)請(qǐng)寫(xiě)出下列物質(zhì)的化學(xué)式C__________、乙_____________;

          (2)分別寫(xiě)出反應(yīng)④⑥的化學(xué)方程式__________、________________。

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          科目:高中化學(xué) 來(lái)源:2010-2011學(xué)年陜西省、西工大附中高三第七次適應(yīng)性訓(xùn)練(理綜)化學(xué)部分 題型:填空題

          (13分)已知:A、B為常見(jiàn)的非金屬單質(zhì)且均為氣體;甲、乙為金屬單質(zhì),乙在I的濃溶液中發(fā)生鈍化;C、H、J的溶液均呈堿性.各物質(zhì)間的轉(zhuǎn)化關(guān)系如下(部分生成物未給出,且未注明反應(yīng)條件):

          ⑴寫(xiě)出反應(yīng)②的化學(xué)方程式                                              。

          ⑵反應(yīng)④中每消耗1 mol G,轉(zhuǎn)移電子的物質(zhì)的量為                    。

          ⑶反應(yīng)⑥的離子方程式是                                               。

          ⑷寫(xiě)出工業(yè)冶煉金屬乙的化學(xué)方程式                                    

          ⑸實(shí)驗(yàn)室中保存I的方法是                                             。

          ⑹SiCl4與過(guò)量A在加熱條件下反應(yīng)可制得高純硅,整個(gè)制備純硅的過(guò)程中必須嚴(yán)格控制無(wú)水無(wú)氧。SiCl4在潮濕的空氣中因水解而產(chǎn)生白色煙霧,其生成物是      ;H2還原SiCl4過(guò)程中若混入O2,可能引起的后果是                。

           

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