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          工業(yè)上高純硅可以通過(guò)下列反應(yīng)制�。�
          
SiCl4(g)＋2H2(g)Si(s)＋4HCl(g)－236 kJ
           

          完成下列填空：
           

          1．在一定溫度下進(jìn)行上述反應(yīng)，若反應(yīng)容器的容積為2 L，H2的平均反應(yīng)速率為0.1 mol/(L·min)，3 min后達(dá)到平衡，此時(shí)獲得固體的質(zhì)量________g．
           

          2．該反應(yīng)的平衡常數(shù)表達(dá)式K＝________．可以通過(guò)________使K增大．
           

          3．一定條件下，在密閉恒容容器中，能表示上述反應(yīng)一定達(dá)到化學(xué)平衡狀態(tài)的是________．
           

          a．2v逆(SiCl4)＝v正(H2)
           

          b．?dāng)嚅_(kāi)4 mol　Si－Cl鍵的同時(shí)，生成4 mol　H－Cl鍵
           

          c．混合氣體密度保持不變
           

          d．c(SiCl4)∶c(H2)∶c(HCl)＝1∶2∶4
           

          4．若反應(yīng)過(guò)程如下圖所示，縱坐標(biāo)表示氫氣、氯化氫的物質(zhì)的量(mol)，橫坐標(biāo)表示時(shí)間(min)，若整個(gè)反應(yīng)過(guò)程沒(méi)有加入或提取各物質(zhì)，則第1.5分鐘改變的條件是________，第3分鐘改變的條件是________，各平衡態(tài)中氫氣轉(zhuǎn)化率最小的時(shí)間段是________．
           

           

          

          			
          


			
          

		
          
		
		
	
          
		
          
			
          
				
          
				答案：
          解析：
          		

          　　1．8.4
          

          　　2．K＝c(HCl)4/c(SiCl4)·c(H2)2　升溫．
          

          　　3．a(chǎn)c
          

          　　4．減壓　升溫(且加催化劑)　1－1.5分鐘
          


          				
          
							
          
			
          
			
          
			
			
          
		
          
	
          

		
          

		





			
          
		
          
		
				
          
				練習(xí)冊(cè)系列答案
		
          
		
				
			

					
          
				相關(guān)習(xí)題
			
          
						
		
          
			
          
				科目：高中化學(xué)
				來(lái)源：
				題型：
			
          

						
          （2013?河?xùn)|區(qū)一模）工業(yè)上高純硅可以通過(guò)下列反應(yīng)制�。�
          SiCl4（g）+2H2（g）
          高溫
          Si（s）+4HCl（g）-236kJ
          完成下列填空：
          （1）在一定溫度下進(jìn)行上述反應(yīng)，若反應(yīng)容器的容積為2L，H2的平均反應(yīng)速率為
          此空刪除
          此空刪除
          0.1mol/（L?min），3min后達(dá)到平衡，此時(shí)獲得固體的質(zhì)量
          8.4
          8.4
           g．
          （2）該反應(yīng)的平衡常數(shù)表達(dá)式K=
          c4(HCl)
          c(SiCl4)?c2(H2)
          c4(HCl)
          c(SiCl4)?c2(H2)
          ．可以通過(guò)
          升溫
          升溫
          使K增大．
          （3）一定條件下，在密閉恒容容器中，能表示上述反應(yīng)一定達(dá)到化學(xué)平衡狀態(tài)的是
          ac
          ac
          ．
          a．2v逆（SiCl4）=v正（H2）            b．?dāng)嚅_(kāi)4mol Si-Cl鍵的同時(shí)，生成4mol H-Cl鍵
          c．混合氣體密度保持不變              d．c（SiCl4）：c（H2）：c（HCl）=1：2：4
          （4）若反應(yīng)過(guò)程如右圖所示，縱坐標(biāo)表示氫氣、氯化氫的物質(zhì)的量（mol），橫坐標(biāo)表示時(shí)間（min），若整個(gè)反應(yīng)過(guò)程沒(méi)有加入或提取各物質(zhì)，則第1.5分鐘改變的條件是
          減壓
          減壓
          ，第3分鐘改變的條件是
          升溫
          升溫
          ，各平衡態(tài)中氫氣轉(zhuǎn)化率最小的時(shí)間段是
          1-1.5min
          1-1.5min
          ．
          

			
          

			
          
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				科目：高中化學(xué)
				來(lái)源：
				題型：
			
          

						
          鍵能的大小可以衡量化學(xué)鍵的強(qiáng)弱，也可以用于估算化學(xué)反應(yīng)的反應(yīng)熱（△H），化學(xué)反應(yīng)的△H等于反應(yīng)中斷裂舊化學(xué)鍵的鍵能之和與反應(yīng)中形成新化學(xué)鍵的鍵能之和的差．參考以下表格的鍵能數(shù)據(jù)，回答下列問(wèn)題：
          

          


          
化學(xué)鍵
Si-O
Si-Cl
H-H
H-Cl
Si-Si
Si-C
          

          
鍵能/kJ?mol-1
460
360
436
431
176
347
          （1）比較下列兩組物質(zhì)的熔點(diǎn)高低（填“＞”或“＜”）
          SiC
          ＞
          ＞
          Si； SiCl4
          ＜
          ＜
          SiO2
          （2）能不能根據(jù)鍵能的數(shù)據(jù)判斷單質(zhì)Si和化合物SiCl4的熔點(diǎn)高低？
          不能
          不能
          （填“能”或“不能”），原因是
          物質(zhì)熔點(diǎn)高低由構(gòu)成物質(zhì)的微粒間作用力決定，單質(zhì)Si屬于原子晶體，原子間作用力是共價(jià)鍵；SiCl4屬于分子晶體，分子間作用力是范德華力，比共價(jià)鍵弱得多．因此不能都根據(jù)鍵能來(lái)判斷物質(zhì)的熔點(diǎn)高低．
          物質(zhì)熔點(diǎn)高低由構(gòu)成物質(zhì)的微粒間作用力決定，單質(zhì)Si屬于原子晶體，原子間作用力是共價(jià)鍵；SiCl4屬于分子晶體，分子間作用力是范德華力，比共價(jià)鍵弱得多．因此不能都根據(jù)鍵能來(lái)判斷物質(zhì)的熔點(diǎn)高低．

          （3）如圖立方體中心的“?”表示金剛石晶體中的一個(gè)原子，請(qǐng)?jiān)诹⒎襟w的頂點(diǎn)用“?”表示出與之緊鄰的碳原子

          （4）工業(yè)上高純硅可通過(guò)下列反應(yīng)制取：SiCl4（g）+2H2（g）
          高溫
           Si（s）+4HCl（g）計(jì)算該反應(yīng)的反應(yīng)熱△H為
          +236kJ/mol
          +236kJ/mol
          ．
          

			
          

			
          
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				科目：高中化學(xué)
				來(lái)源：河南省濟(jì)源一中2010屆高三9月月考化學(xué)試題
				題型：013
			
          

						
          

          通常把拆開(kāi)1 mol某化學(xué)鍵所吸收的能量看成該化學(xué)鍵的鍵能．鍵能的大小可以衡量化學(xué)鍵的強(qiáng)弱，也可以用于估算化學(xué)反應(yīng)的反應(yīng)熱(ΔH)．下面列舉了一些化學(xué)鍵的鍵能數(shù)據(jù)，供計(jì)算用：
           

           

          工業(yè)上高純硅可以通過(guò)下列反應(yīng)制�。篠iCl4(g)＋2H2(g)Si(s)＋4HCl(g)，該反應(yīng)的反應(yīng)熱ΔH為：
           

          

          [　　]
          

          A．
          		

          ＋412 kJ/mol
          

          

          B．
          		

          －412 kJ/mol
          

          

          C．
          		

          ＋236 kJ/mol
          

          

          D．
          		

          －236 kJ/mol
          

          

          

			
          

			
          
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				科目：高中化學(xué)
				來(lái)源：2012-2013學(xué)年上海市黃浦區(qū)高三上學(xué)期期末教學(xué)質(zhì)量調(diào)研化學(xué)試卷（解析版）
				題型：填空題
			
          

						
          工業(yè)上高純硅可以通過(guò)下列反應(yīng)制�。篠iCl4(g)+
2H2(g)  Si
(s) + 4HCl(g) －236kJ
          


          完成下列填空：
          


          （1）在一定溫度下進(jìn)行上述反應(yīng)，若反應(yīng)容器的容積為2L，H2的平均反應(yīng)速率為0.1mol/(L·min)，3min后達(dá)到平衡，此時(shí)獲得固體的質(zhì)量       g。
          


          （2）該反應(yīng)的平衡常數(shù)表達(dá)式K＝            
�？梢酝ㄟ^(guò)_______使K增大。
          


          （3）一定條件下，在密閉恒容容器中，能表示上述反應(yīng)一定達(dá)到化學(xué)平衡狀態(tài)的是        。
          


          a．2v逆(SiCl4)＝v正(H2)                 

          


          b．?dāng)嚅_(kāi)4molSi－Cl鍵的同時(shí)，生成4molH－Cl鍵
          


          c．混合氣體密度保持不變 
          


          d．c(SiCl4)：c(H2)：c(HCl)＝1:2:4
          


          （4）若反應(yīng)過(guò)程如圖所示，縱坐標(biāo)表示氫氣、氯化氫的物質(zhì)的量（mol），橫坐標(biāo)表示時(shí)間（min），若整個(gè)反應(yīng)過(guò)程沒(méi)有加入或提取各物質(zhì)，則第1.5分鐘改變的條件是______，第3分鐘改變的條件是__________，各平衡態(tài)中氫氣轉(zhuǎn)化率最小的時(shí)間段是_____________ 。
          


           
          

			
          

			
          
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