【題目】在容積可變的密閉容器中存在如下反應：CO（g）+H2O（g）CO2（g）+H2（g）△H＜0，下列對圖象的分析中不正確的是（ ） 
A.圖Ⅰ研究的是t0時升高溫度對反應速率的影響
B.圖Ⅱ研究的是t0時增大壓強（縮小體積）或使用催化劑對反應速率的影響
C.圖Ⅲ研究的是催化劑對化學平衡的影響，且甲使用了催化劑
D.圖Ⅲ研究的是溫度對化學平衡的影響，且乙的溫度較高
【答案】C
【解析】解：A．圖Ⅰ正逆反應速率均增大，且逆反應速率大于正反應速率，該反應為放熱反應，則改變的條件為升溫，故A正確；
B．圖Ⅱ中正逆反應速率同等程度的增大，該反應為體積不變的反應，則改變的條件為增大壓強（縮小體積）或使用催化劑，故B正確；
C．圖Ⅲ中乙先達到平衡狀態(tài)，但甲、乙的轉化率不同，不是催化劑的原因，應為乙的溫度高，故C錯誤；
D．圖Ⅲ中乙先達到平衡狀態(tài)，且乙中CO的轉化率小，該反應為放熱反應，則乙的溫度高，故D正確；
故選C．
A．圖Ⅰ正逆反應速率均增大，且逆反應速率大于正反應速率；
B．圖Ⅱ中正逆反應速率同等程度的增大；
C．圖Ⅲ中乙先達到平衡狀態(tài)；
D．圖Ⅲ中乙先達到平衡狀態(tài)，且乙中CO的轉化率�。�
挑戰(zhàn)100單元檢測試卷系列答案科目：高中化學 來源： 題型：
【題目】已知某可逆反應mA（g）+nB（g）pC（g），在密閉容器中進行，如圖表示在不同反應時間t、溫度T和壓強P與反應物B在混合氣體中的百分含量B%的關系曲線，由曲線分析，下列判斷正確的是（ ） 
A.T1＜T2、P1＞P2、m+n＞p，△H＜0
B.T1＞T2、P1＜P2、m+n＞p，△H＞0
C.T1＞T2、P1＜P2、m+n＜p，△H＞0
D.T1＜T2、P1＞P2、m+n＜p，△H＜0
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【題目】實驗室以一種工業(yè)廢渣（主要成分為MgCO3、MgSO4和少量Fe、Al的氧化物）為原料制備MgCO33H2O．實驗過程如圖1 
（1）酸溶需加熱的目的是；過濾時用到的玻璃儀器有
（2）加入H2O2氧化時發(fā)生發(fā)應的離子方程式為 ．
（3）用如圖2所示的實驗裝置進行萃取和分液，以除去溶液中的Fe3+ ． 
①實驗裝置圖2中儀器A的名稱為 ．
②為使Fe3+盡可能多地從水相轉移至有機相，采取的操作：向裝有溶液的儀器A中加入一定量的有機萃取劑，、靜置、分液，并重復多次．
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【題目】火藥是中國古代四大發(fā)明之一，由硫磺、火硝和木炭粉均勻混合而成，點燃后可能發(fā)生的反應：S+2KNO3+3C=N2↑+3CO2↑+X（已配平），則物質X是
A. K2S B. SO2 C. H2S D. SO3
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【題目】氨氣遇氯氣時，有白煙出現，發(fā)生的反應可能有
①2NH3+3Cl2=6HCl+N2 ②NH3+HCl= NH4Cl
下列說法正確的是
A. ①為化合反應 B. ②為置換反應 C. ①為氧化還原反應 D. ②為復分解反應
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【題目】實驗室里常用Na2O2與H2O反應快速制取少量的O2，下面裝置用來制取O2并演示Na在O2中的燃燒實驗。
（1）關閉裝置中的止水夾a后，開啟活塞b，漏斗中液體不斷地往下滴，直至全部流入試管。試判斷裝置是否漏氣________(填“漏氣”、“不漏氣” 或“無法確定”)
（2）寫出C裝置中反應的化學方程式：_________
（3）若裝置是不漏氣的，打開止水夾a后，用上述裝置進行實驗。寫出A中發(fā)生反應的化學方程式，并用雙線橋標出化合價變化情況、電子轉移的方向和數目及被氧化還原情況 _________
（4）B裝置中盛放的試劑是__________，其作用是___________ D儀器名稱是 _____
（5）Fe(OH)2 在潮濕空氣中變成灰綠色、紅褐色：_________
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【題目】A、B、C是單質，其中A是金屬，各種物質間的轉化關系如圖：
根據圖示轉化關系回答：
（1）寫出下列物質的化學式。
A________，B________，甲_________，乙________。
（2）寫出下列變化的化學方程式。
①A與NaOH溶液反應的化學方程式________________________________。
②甲與NaOH溶液反應的離子方程式________________________________。
（3）將一定量的A加入到NaOH溶液中，產生的C在標準狀況下的體積為3.36 L，則消耗的A的物質的量為________，轉移電子的物質的量為________。
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【題目】向鐵銅合金中加入過量的硝酸溶液，得到NO2、N2O4、NO混合氣體，向反應后溶液中加入2mol/LNaOH溶液，至沉淀恰好完全．若將得到的NO2、N2O4、NO混合氣體，與2.24L（標準狀況下）O2混合后通入水中恰好被完全吸收生成硝酸．則反應中消耗的NaOH溶液的體積是（ ）
A.150ml
B.180ml
C.200ml
D.250ml
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【題目】硅單質及其化合物應用范圍很廣。請回答下列問題:
（1）制備硅半導體材料必須先得到高純硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)還原法是當前制備高純硅的主要方法，生產過程示意圖如下:
①寫出由石英砂和焦炭在高溫下制備粗硅的化學反應方程式:_____________。
②整個制備過程必須嚴格控制無水無氧。SiHCl3遇水劇烈反應生成H2SiO3、HCl和另一種氣體，寫出配平的化學反應方程式: _____________；H2還原SiHCl3過程中若混入O2，可能引起的后果是______________。
（2）下列有關硅材料的說法正確的是_____________ (填字母代號)。
A.氮化硅硬度大、熔點高，可用于制作高溫陶瓷和軸承
B.石英坩堝耐高溫性強，可用于加熱熔融氫氧化鈉
C.神舟10號飛船所用太陽能電池板可將光能轉換為電能，所用轉換材料單晶硅也可以制作電腦芯片
D.普通玻璃是由純堿、石灰石和石英砂制成的，其熔點很高
E.鹽酸可以與硅反應，故可采用鹽酸為拋光液拋光單晶硅
F.瑪瑙飾品的主要成分與建筑材料砂子相同
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