Question

(16分)氨氣是一種重要的基礎(chǔ)化工原料，用途廣泛。
（1）在微電子工業(yè)中，氨水可作刻蝕劑H₂O₂的清除劑，產(chǎn)物不污染環(huán)境。該反應(yīng)的化學(xué)方程式為2NH₃ + 3H₂O₂=         +6H₂O
（2）工業(yè)中常用以下反應(yīng)合成氨：N₂+3H₂2NH₃ △H＜0。某實(shí)驗(yàn)室在三個不同條件的密閉容器中，分別加入N₂和H₂，濃度均為c(N₂) =" 0.100mol/L," c(H₂) = 0.300mol/L，進(jìn)行反應(yīng)時, N₂的濃度隨時間的變化如圖①、②、③曲線所示。

該反應(yīng)平衡常數(shù)的數(shù)學(xué)表達(dá)式為            ；實(shí)驗(yàn)②平衡時H₂的轉(zhuǎn)化率為_____       。
（3）據(jù)圖所示，②、③兩裝置中各有一個條件與①不同。請指出，并說明判斷的理由。
②條件：_______     理由：                                     ________
③條件：_______     理由：                                     ________

Answer 1

．(16分)
（1）2NH₃ + 3H₂O₂  =" " N₂  +  6H₂O  （2分）
（2）K  = （3分）            40% （3分）
（3）②：加了催化劑（2分）；因?yàn)榧尤氪呋瘎┠芸s短達(dá)到平衡的時間，但化學(xué)平衡不移動，所以①②兩裝置達(dá)到平衡時N₂的濃度相同。（2分）
③：溫度高（2分）；該反應(yīng)為放熱反應(yīng)，溫度升高，達(dá)到平衡的時間縮短，但平衡向逆反應(yīng)方向移動，③中到達(dá)平衡時N₂的濃度高于①。（2分）

解析