Question

下邊左圖為美國(guó)硅谷地區(qū)圖，右圖為魯爾區(qū)圖，讀圖完成下題。

1.兩地區(qū)工業(yè)共同的優(yōu)勢(shì)區(qū)位條件是

1. A.
   科技力量雄厚
2. B.
   環(huán)境優(yōu)美
3. C.
   交通便捷
4. D.
   能源充足

2.兩工業(yè)地域形成與發(fā)展的共同特點(diǎn)是

1. A.
   新增企業(yè)以中小型為主
2. B.
   規(guī)劃建設(shè)形成的工業(yè)地域
3. C.
   因生產(chǎn)聯(lián)系而分散
4. D.
   工業(yè)布局趨向水源豐富地區(qū)

Answer 1

1. C
2. A
1.本題考查世界著名的工業(yè)區(qū)。第3題，A項(xiàng)魯爾區(qū)為傳統(tǒng)工業(yè)，技術(shù)水平不高；錯(cuò)誤。B項(xiàng)魯爾區(qū)主要是重工業(yè)的發(fā)展，環(huán)境要求低；錯(cuò)誤。C項(xiàng)美國(guó)硅谷靠近舊金山（航空港），且靠近高速公路；交通便利；魯爾區(qū)水陸交通便利是本區(qū)發(fā)展的區(qū)位優(yōu)勢(shì)之一；正確。D項(xiàng)美國(guó)硅谷的發(fā)展，能源要求較低；錯(cuò)誤。
2.第4題，美國(guó)硅谷以微電子工業(yè)為主的高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)區(qū)，以中小型企業(yè)為主；魯爾區(qū)為傳統(tǒng)工業(yè)區(qū)，在綜合整治過(guò)程中，大力發(fā)展新興工業(yè)和第三產(chǎn)業(yè)，新增的產(chǎn)業(yè)多為技術(shù)精良的中小型企業(yè)。