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        1. 下表數(shù)據(jù)是在某溫度下,金屬鎂和鎳(Ni)分別在氧氣中進(jìn)行氧化反應(yīng)時(shí),在金屬表面生成氧化薄膜的實(shí)驗(yàn)記錄:
          反應(yīng)時(shí)間/h 1 4 9 16 25
          MgO層厚/nm 0.05a 0.2a 0.45a 0.8a 1.25a
          NiO層厚/nm b 2b 3b 4b 5b
          注:a和b均為與溫度有關(guān)的常數(shù),nm表示“納米”
          請(qǐng)回答:
          Mg與Ni比較,哪一種更易氧化?______,其理由是______.
          如果用Y表示氧化薄膜層厚,用t表示形成氧化薄膜層厚所需時(shí)間,Y和t的關(guān)系分別為_(kāi)_____,______.
          開(kāi)始時(shí)氧化鎂厚度增加的速度為:
          0.2a
          0.05a
          =4,而氧化鎳厚度增加的速度為:
          2b
          b
          =2,所以鎂比鎳更容易氧化,所以本題答案為:Mg,氧化鎂厚度增加的速度比氧化鎳快;
          根據(jù)表中數(shù)據(jù)可以看出,時(shí)間為1時(shí),氧化鎂增加厚度為0.05a,所以Y與t的關(guān)系為Y=0.05at,氧化鎳增加的厚度為b,時(shí)間為4時(shí),氧化鎳的厚度為2b,所以Y與t的關(guān)系為Y=
          t
          b,所以本題答案為:Y=0.05at,Y=
          t
          b.
          練習(xí)冊(cè)系列答案
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          科目:初中化學(xué) 來(lái)源: 題型:

          下表數(shù)據(jù)是在某溫度下,金屬鎂和鎳(Ni)分別在氧氣中進(jìn)行氧化反應(yīng)時(shí),在金屬表面生成氧化薄膜的實(shí)驗(yàn)記錄:
          反應(yīng)時(shí)間/h 1 4 9 16 25
          MgO層厚/nm 0.05a 0.2a 0.45a 0.8a 1.25a
          NiO層厚/nm b 2b 3b 4b 5b
          注:a和b均為與溫度有關(guān)的常數(shù),nm表示“納米”
          請(qǐng)回答:
          Mg與Ni比較,哪一種更易氧化?
          Mg
          Mg
          ,其理由是
          氧化鎂厚度增加的速度比氧化鎳快
          氧化鎂厚度增加的速度比氧化鎳快

          如果用Y表示氧化薄膜層厚,用t表示形成氧化薄膜層厚所需時(shí)間,Y和t的關(guān)系分別為
          Y=0.05at
          Y=0.05at
          ,
          Y=
          t
          b
          Y=
          t
          b

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          科目:初中化學(xué) 來(lái)源: 題型:022

          下表數(shù)據(jù)是在某溫度下,金屬鎂和鎳(Ni)分別在氧氣中進(jìn)行氧化反應(yīng)時(shí),在金屬表面形成氧化膜的實(shí)驗(yàn)記錄:

          注:ab均為與溫度有關(guān)的常數(shù),nm表示“納米”請(qǐng)回答:鎂與鎳相比,哪一種更易氧化?________.其理由是______________________

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          科目:初中化學(xué) 來(lái)源: 題型:填空題

          下表數(shù)據(jù)是在某溫度下,金屬鎂和鎳(Ni)分別在氧氣中進(jìn)行氧化反應(yīng)時(shí),在金屬表面生成氧化薄膜的實(shí)驗(yàn)記錄:
          反應(yīng)時(shí)間/h1491625
          MgO層厚/nm0.05a0.2a0.45a0.8a1.25a
          NiO層厚/nmb2b3b4b5b
          注:a和b均為與溫度有關(guān)的常數(shù),nm表示“納米”
          請(qǐng)回答:
          Mg與Ni比較,哪一種更易氧化?________,其理由是________.
          如果用Y表示氧化薄膜層厚,用t表示形成氧化薄膜層厚所需時(shí)間,Y和t的關(guān)系分別為_(kāi)_______,________.

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          下表數(shù)據(jù)是在某溫度下,金屬鎂和鎳(Ni)分別在氧氣中進(jìn)行氧化反應(yīng)時(shí),在金屬表面生成氧化薄膜的實(shí)驗(yàn)記錄:
          反應(yīng)時(shí)間/h1491625
          MgO層厚/nm0.05a0.2a0.45a0.8a1.25a
          NiO層厚/nmb2b3b4b5b
          注:a和b均為與溫度有關(guān)的常數(shù),nm表示“納米”
          請(qǐng)回答:
          Mg與Ni比較,哪一種更易氧化?    ,其理由是   
          如果用Y表示氧化薄膜層厚,用t表示形成氧化薄膜層厚所需時(shí)間,Y和t的關(guān)系分別為       

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